Для большинства фоторезистов и подложек Si его адгезия, как правило, хороша, но в фотолитографии, как правило, используются некоторые подложки, такие как сапфир, нитрид галлия, арсенид галлия и даже пленка из драгоценных металлов, такие подложки и фоторезисты, как правило, не очень хорошо прилипают, что может привести к последующим фотолитографическим проявлениям, таким как « трещины» или даже дрейфующие клеи и другие проблемы. Поэтому его необходимо улучшить технологическими средствами, и этот шаг мы называем аддитивной обработкой или адгезией.

Диоксид кремния, присутствующий в виде оксидов (естественного окисления) на поверхности кварца, стекла или кремния, а также большинство металлов образуют полярные OH - связи на их поверхности после воздействия на атмосферу в течение достаточного времени при определенной влажности. Эта подложка гидрофильна и поэтому имеет плохую сродство к неполярным или низкополярным молекулам смолы фоторезиста. Чтобы сделать такую поверхность подложки гидрофобной, неполярные молекулы, такие как HMDS, могут быть химически прикреплены к ее поверхности.

HMDS связывается с атомами Si на анаэробной поверхности, связывается с атомами кислорода на поверхности окислительной группы (при необходимости, разложение группы OH), высвобождая аммиак. Неполярный метил непосредственно изолирует поверхность подложки, образуя гидрофобную поверхность, которая обладает хорошей смачивающей способностью и адгезией с фоторезистом.

Принцип работы:

При комнатной температуре пары HMDS транспортируются через сухой азот в « пенообразователе», а затем передаются в нагретую (75 - 120°C) матрицу, где HMDS химически связывается как однослойная мембрана на поверхности подложки.

Если жидкий HMDS наносится непосредственно на подложку, слой HMDS может действовать только как физический адгезионный слой и не улучшает адгезию; Во - вторых, слой HMDS выделяет аммиак во время передней сушки и попадает в пересекающуюся фотолитографическую пленку вблизи подложки, тем самым подавляя процесс проявления.

Характеристики продукции:

Внешняя структура:

* Корпус использует A3 холоднокатаную стальную пластину для обрезки, шлифовки, травления, фосфидации и других поверхностей после антикоррозионной обработки окраски, студия использует SUS316 # чистую нержавеющую сталь, полную сварку, высокотемпературную герметизацию, усиленную конструкцию, чтобы обеспечить невидимое изменение высокого давления в корпусе.

* Высокая воздухонепроницаемость студии, утечка газа до 100 Па / ч.

* Двухэтажное стекло для наблюдения за взрывозащищенным стеклом, 10 мм взрывозащищенная стеклянная внутренняя дверь.

* Изоляция использует изоляционный материал из силикатного алюминиевого волокна высокой плотности 100 мм толщиной 100K, эффект теплоизоляции хороший.

* Закрытие дверной рамы с использованием резинового уплотнителя без фторсиликона, высокотемпературного, анти - старения.

Система контроля температуры:

* Нержавеющая сталь гетеросексуальный нагреватель, окруженный внешней стенкой студии, нагревается со всех сторон.

* 7 - дюймовый человеко - машинный интерфейс, управление PLC + PID + SSR, бесконтактное SSR и другие циклические импульсы ширины, интеллектуальные вычисления PID, автоматическая постоянная температура, подавление перегрева, сигнализация датчика о разрыве линии, память отключения, точное управление температурой, простота управления.

В зависимости от технологии можно установить несколько режимов работы.

*высокоточный датчик температуры платинового сопротивления из нержавеющей стали PT100

Системы безопасности:

* Клавишный замок

Сигнализация уровня HMDS

Теплозащита.

Защита от перегрузки током.

* Защита фазового порядка

Защита от утечки электроэнергии.

Защищаем землю