Предыстория проекта: Полупроводники открывают вторую кривую развития

Под влиянием генерируемого искусственного интеллекта полупроводниковая промышленность резко восстановилась за последние два года. Согласно многочисленным прогнозам, полупроводниковая промышленность будет продолжать расти,2030Год обещает прорыв1Критерий в триллионах долларов. В нашей стране, столкнувшись с суровой реальностью, что полупроводники « застряли в шеи», скорость их развития была быстрой, а спрос был большим. Государство также придает большое значение развитию полупроводников и постоянно предлагает политику поддержки.

II. ОБЩИЙ ОБЗОР ДЕЯТЕЛЬНОСТИ: Работа по национализации полупроводниковых технологий

Точные научно - технические услуги полупроводникового предприятия посвящены отечественной замене, специализированной компоновке процесса карбида кремния, после многолетнего накопления процесса, в настоящее время формируется технология травления оборудования, тонкопленочного осадочного технологического оборудования и других продуктов, в основном для полупроводниковой передней технологической стадии, таких как карбид кремния, нитрид галлия и другие соединения полупроводниковой обработки.

III. ПОТРЕБНОСТЬ НА УСЛОВИЯ РАБОТЫ: ЧИСЛО ПЕРЕДАЧИ, ОБЕСПЕЧЕНИЕ КАЧЕСТВА ПРОИЗВОДСТВА

Полупроводниковое предприятие поставляет клиентам, расположенным ниже по течению, оборудование для осаждения пленки, травления, удаления клея и т.д., которое используется для изготовления и осаждения пленочного слоя на базовом материале для формирования функционального слоя чипа. Химическое осаждение (CVDВ процессе испарение и смешивание жидкого исходного материала с помощью газожидкостного смешанного испарителя приводит к образованию однородной пленки в процессе осаждения.

Полупроводниковое предприятие должно заменить иностранный бренд и предложить следующие требования:
1.Короткий и стабильный цикл поставок*
2.Обеспечить полное испарение жидкости;
3.Быстро реагирует, газ смешанного испарения выходит равномерно.*

4.Точность потока жидкости соответствует установленной норме.

IV. Решения: Короткий цикл поставок, обеспечение качества производства

Понимая потребности, мы проектируем систему смешанного испарения газа и жидкости для наших клиентов в соответствии со смешанной средой и условиями работы.

Система оснащена управляемым испарительным смесителем.х1Контроллер потока массы жидкостих1Контроллер качества и расхода газах1Контроль температурых1А.

Рисунок: Продукты с управляемым испарительным смесителем ACU20CEM для газожидкостной системы смешанного испарения

Система настроена следующим образом:

Контролируемый испарительный смеситель:Максимальный диапазон газа 10 л / мин, минимальный диапазон жидкости (воды) 120 г / ч.
Контроллер потока жидкости:Точность ± 0,25% F.S, точность повторения 0,05% F.S.
Контроллер потока газа:Точность ±0,5% F.S, точность повторения ±0,2% F.S.

Контроль температуры:Можно контролировать до 200 ° C ~ 300 ° C высокой температуры, полностью удовлетворяя условиям испарения указанной среды.

Есть конкретные параметры для общения, пожалуйста, свяжитесь с менеджером продукта на странице!