В процессе изготовления тонких пленок некоторые металлические органические соединения (МОКДавление паров предшественников, таких как гидроиды и аммиак, намного ниже стандартного атмосферного давления.760 тоПри комнатной температуре очень трудно испариться. Эти предшественники должны быть доставлены в химические отложения в газовой фазе.(CVD)В реакторе традиционным методом является использование растворителя/Химическая и жидкая транспортировка растворителей. Некоторые твердые предшественники имеют ограничения растворимости, которые влияют на максимальный массовый поток, доставляемый в технологические полости.

Мы используем передовые методы измерения давления и управления, которые непосредственно контролируют транспортировку пара твердого предшественника без использования растворителя, чтобы обеспечить точную и повторяющуюся транспортировку, так что подготовка тонкопленочного материала более эффективна.

В ответ на спрос на диапазон трафика в различных областях, наши низкопаровые контроллеры имеют мощные встроенныеПроцессорДля достижения широкого диапазона интеллектуального управления потоком, диапазон управления для полного диапазона10% ~ 100%А.

Контроллер низкого давления может быть30℃~200℃Поддерживайте стабильное измерение и контроль в пределах рабочей температуры, применимой к суровым условиям. использоватьМодбусСоглашение (РС485/232Простая реализация подключения к компьютеру или другому устройству для передачи данных и дистанционного управления.

Широко используется в различных отраслях промышленности процесса производства тонкой пленки, таких как производство полупроводниковых интегральных схем, фотоэлектрические тонкопленочные солнечные батареи, исследования и разработки новых материалов, медицинские приборы биодатчики и многие другие отрасли промышленности, благодаря ключевым тонкопленочным процессам, дает возможность различным отраслям промышленности производить высококачественные тонкопленочные материалы.

При возникновении конкретных вопросов можно связаться с менеджером продукта на странице.