Описание оборудования

Сканирующий электронный микроскоп + экспозиция электронного луча

Сканирующие зеркала Zeissigma300 используются для наблюдения за структурой поверхности материала для проводящих материалов микронного и субмикронного уровней и широко используются. Направление конденсированного состояния в основном используется для проверки результатов изготовленных микросхем, волноводов и других материалов.

Сканирующие зеркала оснащены программным обеспечением для экспозиции электронного луча Raith, которое обеспечивает проектирование и экспозицию размерных схем с максимальным полем записи 1000 м и максимальной точностью 100 нм.

Показатели производительности: разрешение: 20 нм - - - 10 кВ, напряжение ускорения: 100В - 30 кВ, кратное усиление: 50 - 500К, детектор: вторичный электронный детектор SE2, детектор Inlens и инфракрасная камера CCD.

Основное применение: для наблюдения за поверхностью проводящих и непроводящих материалов, получения вторичных электронных изображений поверхности.

Требования к образцам: твердые неспорошковые сухие образцы, поверхность образца чистая, без масляного загрязнения, без магнетизма и не легко намагничивается, образец не должен содержать железо (Fe), кобальт (Co), никель (Ni). Высота менее 20 мм, диаметр менее 50 мм. Образцы пористого класса или влагоразлагаемые, предварительно вакуумной сушки. Образец должен обладать электропроводностью. Если образец не проводит электричество, необходимо обработать позолоченную, углеродную и другие проводящие пленки.

Примечание: Статья воспроизведена на платформе объявлений Института физики и астрономии Шанхайского университета Цзяотун《Сканирующий электронный микроскоп и экспозиция электронного луча"