Дисплей является основным оборудованием в фотолитографическом процессе, его основная роль заключается в том, чтобы превратить фоторезист на поверхности кристаллической окружности после экспозиции в « скрытый » (невидимый невооруженным глазом), химически преобразованный в хорошо видимую графику тонкой схемы, является ключевым звеном в производстве полупроводниковых чипов, производстве прецизионных электронных компонентов, связанных с « экспозицией» и « травлением».

Рабочий процесс проявителя может быть упрощен до трех этапов: во - первых, доставка кристаллического круга после экспозиции в проявительную камеру; Затем проявительный раствор равномерно воздействует на поверхность кристаллической окружности путем распыления или погружения, селективно растворяя фоторезист, который не подвергается экспозиции (позитив) или экспозиции (отрицательный клей), чтобы тень проявлялась; Наконец, после очистки удаляется остаточная проявительная жидкость, сушка и отверждение, образуя стабильную графическую основу схемы.

Его основная структура включает в себя транспортную систему (для обеспечения плавной и точной передачи кристаллической окружности), проявительную систему (для управления температурой проявительной жидкости, концентрацией и временем действия), систему очистки и сушки (для повышения графической стабильности) и систему управления (для достижения автоматической точной регулировки). По мере того, как процесс производства чипов продвигается к 3 нм и ниже, демонстрационная машина движется в направлении более высокой точности, более высокой эффективности и интеллекта, обеспечивая основную поддержку для миниатюризации и высокой плотности полупроводниковой промышленности.