Цилинометр, также известный как машина для выравнивания клея, машина для сброса клея и т. Д. Это устройство, используемое для равномерного покрытия жидкой пленки на поверхности фундамента. Это лабораторное и производственное оборудование, широко используемое в области материаловедения, полупроводникового производства, микроэлектроники, оптики и биомедицины, его основная функция заключается в равномерном покрытии жидкой пленки (например, фоторезиста, полимерного раствора, биоматериала и т. Д.) на поверхности пластины (например, силикона, стеклянной пластины, полимерной пластины и т. Д.).
Капли жидкого материала добавляются к центру неподвижного или низкоскоростного вращающегося фундамента, который вращается с высокой скоростью под управлением двигателя, а центробежная сила вытягивает жидкий материал из центра наружу. По мере стабилизации скорости вращения жидкий материал образует однородную пленку на поверхности фундамента. Для жидкостей, содержащих растворитель, растворитель улетучивается во время вращения, образуя твердые или полутвердые пленки.
Благодаря центробежной силе, создаваемой вращением с высокой скоростью, жидкостный материал равномерно растягивается и образует пленку с контролируемой толщиной. Конкретные процессы заключаются в следующем:
Капли: капли жидкого материала (например, фоторезиста) добавляются к центру неподвижной или низкоскоростной вращающейся пластины.
Ускорить вращение: фундамент вращается с высокой скоростью под приводом двигателя, а центробежная сила вытягивает жидкий материал из центра наружу.
Формирование пленки: по мере стабилизации скорости вращения жидкий материал образует однородную пленку на поверхности фундамента.
Летучий растворитель (необязательно): Для жидкостей, содержащих растворитель, растворитель улетучивается во время вращения, образуя твердую или полутвердую пленку.
Основные характеристики
Высокая однородность: может достичь однородности толщины нанометра (±2%), подходит для процессов, требующих высокой однородности пленки, таких как покрытие фоторезистом, подготовка антиотражающего покрытия и так далее.
Толщина контролируема: толщину покрытия можно точно контролировать, регулируя скорость вращения, время покрытия и вязкость материала и другие параметры.
Широкий диапазон применения: широкий спектр применимых материалов, включая полимерные растворы, фоторезисты, чернила, краски и т. Д., А также может использоваться для кремниевых пластин, стекла, металла и других материалов фундамента.
Оперативные меры предосторожности
Во время работы необходимо выбрать подходящий адсорбционный диск, положить базовую пластину и включить вакуумный насос, чтобы убедиться, что базовая пластина всасывается, а затем запускает вращение. Капли двигаются быстро и завершаются в установленные сроки. После того, как двигатель останавливается, он может открыть верхнюю крышку, чтобы снять фильм, и регулярно очищать вытяжную камеру, чтобы предотвратить всасывание клея, чтобы заблокировать газовый путь.