полифотонный фоторезист(Multiphoton Polymerization Photoresist) - специальный светочувствительный материал, предназначенный для трехмерной микронанообработки фемтосекундных лазеров. Полифотонный полимерный фоторезист предназначен для фемтосекундной лазерной трехмерной микронанообработки, при выборе необходимо интегрировать ключевые показатели производительности для обеспечения точности, эффективности и применимости.

Сценарий применения ‌:

• биомедицинская ‌‌‌‌‌‌‌‌‌‌‌‌‌‌‌‌‌‌‌‌‌‌‌ А

• Фотонные приборы ‌: трехмерные фотонные кристаллы, микролинзовые решетки;

‌ Прецизионный механический ‌: прямая запись элементов, поддерживающих сложные подвесные конструкции ‌

Критерии отбора ключевых показателей эффективности ‌:

‌Разрешение ‌: Определение минимального характеристического размера (обычно до уровня 100 нм), высокое разрешение поддерживает создание более сложных структур (например, микролинз или фотонных кристаллов); Однако необходимо взвесить затраты и производительность, чтобы избежать чрезмерных вложений. А

‌Чувствительность ‌Отражает чувствительность к энергии экспозиции, высокая чувствительность может снизить дозу экспозиции лазера, повысить эффективность обработки; Однако следует отметить, что высокая чувствительность может повысить экологическую чувствительность. А

‌ Контрастность ‌: влияет на резкость края рисунка, высокая контрастность (около 90° боковых стенок) уменьшает размытость линий и повышает структурную точность. А

• проявительные свойства ‌: Обеспечить удаление нераскрытых участков и уменьшение остатков; При выборе следует учитывать скорость и однородность проявления. А

‌ Механические свойства ‌: Включая твердость, вязкость и устойчивость к растяжению, чтобы предотвратить деформацию или растрескивание при нанесении или обработке. А

‌ Химическая стойкость и термостабильность ‌: стойкость к коррозионным агентам, моющим средствам и высокотемпературной обработке (например, выпечке), чтобы избежать искажений графики; Тепловая стабильность особенно важна для высокоэнергетической лазерной среды полимеризации фотонов. А

• Чистота ‌: Содержание примесей должно строго контролироваться на уровне ppb, высокая чистота снижает риск микродефектов.