Добро пожаловать Клиент!

Членство

Помощь

Qingdao Tianren Micro Nano Technology Co., Ltd
Заказчик производитель

Основные продукты:

instrumentb2b> >Статья

Qingdao Tianren Micro Nano Technology Co., Ltd

  • Электронная почта

    dawei.wang@germanlitho.com

  • Телефон

    18612023280

  • Адрес

    Циндао Chengyang District, Xiangyang Road, 106 Qingdao Future Technology Industrial Park, здание 6

Свяжитесь сейчас
Обработка микролинзовых массивов для создания микрооптической « точной матрицы»
Дата:2025-07-17Читать:0
В таких передовых областях, как фотоэлектроника, технологии визуализации и искусственный интеллект,Технология обработки микролинзСтрогие требования, связанные с преимуществами и недостатками производительности и расширением применения, ниже анализируются ключевые моменты во многих аспектах.
Выбор материала является основой, необходимо учитывать оптические характеристики и механическую стабильность. Кварц благодаря сверхвысокой скорости пропускания, низкому температурному коэффициенту преломления, стал идеальным выбором для ультрафиолетового до ближнего инфракрасного диапазона, может точно фокусировать свет, уменьшать хроматические помехи; Полиметилметакрилат (PMMA) из - за хорошей пластичности, более легкого качества и умеренной скорости преломления, адаптируется к инфракрасной визуализации и легким сценариям спроса, способствует крупномасштабной подготовке. После выбора материала, строго контрольная чистота, микропримеси могут рассеивать свет, уменьшать однородность массива.
Точность управления на протяжении всего процесса обработки, допуск на размер почти « миллилитр должен быть изучен». отклонение диаметра одной микролинзы должно контролироваться на уровне субмикрон, чтобы обеспечить плотное расположение массива, равномерное расстояние, иначе нарушение оптического пути, искажение изображения или резкое снижение эффективности связи; шероховатость поверхности также требует нанометрового уровня, гладкая поверхность обеспечивает преломление света, отражение следует проектной траектории, уменьшает потери рассеяния, что создает высокие проблемы для разрешения технологического оборудования и технологической стабильности.

微透镜阵列加工

Технологические звенья взаимосвязаны, технология фотолитографии использует ультрафиолетовую литографию, проектный рисунок точно переносится на фундамент, разрешение до 100 нанометров ниже, набросать прототип контура микролинзы; Затем процесс травления эстафеты, сухое травление анизотропии хороший, может вертикально вырезать материал, чтобы обеспечить крутую боковую стенку линзы, мокрое травление химическим раствором селективной коррозии, размягчение края или регулировка кривизны, оба вместе вырезать идеальную форму поверхности. Теплоплавление формования также имеет решающее значение, точно контролирует температуру, время, так что материал в твердом состоянии потока реконструируется, исправляет ошибку кривизны, формирует высокоточную оптическую поверхность.
Обнаружение звеньев атомно - силового микроскопа с легким прикосновением сканирования, чтобы нарисовать трехмерный контур поверхности, количественно определить шероховатость, радиус кривизны; Оптическая система обнаружения имитирует фактический световой путь, проецирует параллельный свет, анализирует фокус, дифракционный эффект, дефекты обработки обратной связи в режиме реального времени, чтобы своевременно вернуться в печь для переработки. От отбора материалов до тонкой отделки, а затем до строгого тестирования, обработка микролинзовых массивов шаг за шагом, чтобы дать возможность науке и технике перейти к более высокопроизводительным измерениям.