Диапазон ультрафиолетовых источников ультрафиолетового излучения ультракоротковолнового диапазона (ExtremeUltraviolet, EUV) обычно относится к части ультрафиолетового спектра длины волны в диапазоне от 10 до 121 нанометра, то есть ультрафиолетовое излучение длиной волны меньше, чем обычный ультрафиолетовый спектр (UV - A, UV - B, UV - C).
Распределение диапазонов ультрафиолетового ультрафиолетового излучения на очень короткие волны:
Полярный ультрафиолетовый свет (EUV): диапазон длин волн обычно определяется от 10 нм до 121 нм и расположен в самой короткой части ультрафиолетового спектра, ниже традиционного ультрафиолетового диапазона C (от 200 нм до 280 нм) и длиннее, чем длина волны рентгеновского излучения.
Отношение к рентгеновским лучам: длина волны EUV - излучения длиннее рентгеновского, но короче ультрафиолетового C - диапазона, поэтому иногда считается « переходным» излучением, расположенным между ультрафиолетовым и рентгеновским лучами.
Особенности EUV:
Высокая энергия: излучение EUV имеет более высокую энергию и может проникать во многие материалы, но обычно быстро поглощается воздухом и другими веществами, поэтому естественное излучение EUV практически не происходит на поверхности Земли.
Область применения: Благодаря своей короткой длине волны и высокой энергии источники света EUV широко используются в фотолитографии в современном производстве полупроводников для создания интегральных схем минимального размера (например, 7 нм, 5 нм). Кроме того, EUV используется в астрономии, материаловедении и некоторых медицинских применениях.
Типы источников света EUV:
Из - за очень короткой длины волны EUV традиционные источники света не могут напрямую генерировать ультрафиолетовые лучи такой длины волны. Существующие источники света EUV в основном используют следующие технологии:
Лазер на свободных электронах (FEL): излучение, генерируемое электронами после ускорения в магнитном поле, используется для генерации длины волны EUV.
Плазменный источник света: излучает EUV - излучение, облучая плазму, полученную из определенных веществ, таких как олово, лазером высокой энергии.
Применение:
Производство полупроводников: технология EUV в настоящее время является важным инструментом для производства передовых полупроводниковых чипов, особенно в фотолитографии минимальных размеров, таких как 10 нм, 7 нм или даже меньшие технологические узлы.
Астрономия: диапазон EUV важен для изучения высокотемпературных объектов (например, Солнца, галактик и т.д.) и их радиационных характеристик.
Материаловедение: используется для анализа поверхностных структур и компонентов материалов, особенно в области нанотехнологий.
В целом, ультрафиолетовые ультрафиолетовые волны (EUV) являются важным диапазоном излучения между ультрафиолетовыми и рентгеновскими лучами, имеют высокую энергию и играют ключевую роль в нескольких высокотехнологичных областях.