Вакуумная плазменная машина для удаления клея широко используется в полупроводниковой упаковке, микроэлектронике и других областях, ее неисправность напрямую влияет на эффективность производства и качество продукции. Ниже приведены наиболее распространенные неисправности, основанные на принципах оборудования и практическом опыте:
Отказ вакуумной системы
- Недостаточный вакуум или невозможность вакуума
- Старение уплотнений: проверьте, изношены ли уплотнительные кольца дверей полости, кольцо типа О на стыке трубопровода, и своевременно замените деформированное или треснувшее уплотнение.
- Аномальные вакуумные насосы: Наблюдайте за звуком работы насосной группы и уровнем масла, если механическое насосное масло эмульгируется или молекулярный насос подается неправильно, необходимо заменить смазочное масло или отремонтировать насосную группу.
- Утечка в газопроводе: обнаружение газопроводов с помощью гелиевого масс - спектрометрического течеискателя с уделением особого внимания декомпрессионным клапанам, расходомерным соединениям, закреплению ослабленных соединений или замене поврежденных трубопроводов.
- Ошибка срабатывания вакуумной сигнализации.
- Калибровка дрейфа датчиками давления: стандартный вакуумметр регулярно сравнивает значения отображения оборудования, и при ошибке более ±5% датчик необходимо повторно откалибровать.
II. Отказ радиочастотной (RF) системы
- Плазма не генерируется.
- Повреждение радиочастотного источника питания: измерение выходного сигнала радиочастотного источника и возвращение на завод для ремонта, если выход мощности отсутствует; Если тест на ложную нагрузку является нормальным, необходимо проверить, ломается ли радиочастотный кабель или окисляется соединение.
- Отказ согласующего устройства: отрегулируйте параметры емкости / индуктивности автомата, если двигатель застрял или шестерня изношена, необходимо разобрать коробку согласования, чтобы очистить накопление углерода и заменить поврежденные детали.
Плотность плазмы низкая или нестабильная.
- Загрязнение электродами: демонтаж верхних и нижних электродных пластин, протирание поверхностных остаточных коллоидов безводным этанолом, чтобы избежать накопления органических веществ, приводящих к неравномерному разряду.
- Недостаточная чистота газа: обнаружение давления аргона, кислородного баллона, замена источника газа при чистоте газа ниже 99,99% и очистка примесей внутри контроллера массы и расхода.
III. Необычные технологические эффекты
- Неэффективное удаление клея.
- Неправильная настройка параметров: регулировка мощности (обычно 60 - 120 Вт) и времени (30 - 120 секунд) в соответствии с толщиной коллоида, например, толстый фоторезист должен увеличить соотношение кислорода до 80% для увеличения скорости химической реакции.
- Загрязнение полости: Периодическая очистка стенда - носителя ультразвуком изопропилового спирта для удаления отслаивающихся частиц клея, чтобы предотвратить вторичное осаждение, влияющее на эффективность обработки.
- Повреждение поверхности материала
- Чрезмерное травление: снижение радиочастотной мощности ниже порога или сокращение времени обработки; Для чувствительных устройств применяется импульсный режим (коэффициент пустоты составляет 70%) для уменьшения накопления тепла.
IV. Сбои в работе оборудования и систем управления
- Устройство не запускается.
- Переключатель аварийной остановки не сброшен: проверьте, всплывает ли красная кнопка аварийной остановки на панели управления, поверните по часовой стрелке, чтобы разблокировать и перезапустить питание.
- Отказ реле: измерить выходное напряжение цепи управления и заменить элемент того же типа, если контакт реле прилипает.
- Поток газа вышел из - под контроля.
- Электромагнитная засоренность клапана: демонтаж газового фильтра, обратная продувка фильтра азотом высокого давления, прямая замена нового фильтра при сильной засоренности.
Устранение неполадок вакуумного плазменного дегельминта требует сочетания вакуумной технологии, радиочастотной инженерии и технологического опыта. Создание механизма « профилактическое обслуживание + быстрая диагностика» может значительно повысить скорость движения урожая оборудования.