Добро пожаловать Клиент!

Членство

Помощь

Xiamen Yunmao Technology Co., Ltd
Заказчик производитель

Основные продукты:

instrumentb2b> >Статья

Xiamen Yunmao Technology Co., Ltd

  • Электронная почта

    wu.xiaoyu@ym-qbt.com

  • Телефон

    19906051395

  • Адрес

    Сямынь Цзимей район Цзимей Северная авеню 1068 - 6 Anren Industrial Park

Свяжитесь сейчас
Какие бывают процессы испарения с помощью электронных лучей
Дата:2025-12-09Читать:1
Электронно - лучевое испарительное покрытие представляет собой метод испарения и осаждения на поверхности фундамента в вакуумной среде с использованием нагревательного материала с электронным лучом для образования пленки. Ниже приводится подробное описание процесса его использования:
I. ПРЕДВАРИТЕЛЬНАЯ ПОДГОТОВКА
1. Образцы и подготовка материалов: Выбор подходящего материала для парового покрытия, такого как металл, сплав или соединение, в соответствии с потребностями и размещение его в тигле с водяным охлаждением. Следите за тем, чтобы материал был высоким и чистым.
2. Проверка оборудования: проверка исправности частей оборудования, включая электронные пушки, вакуумные насосы, системы охлаждения и т.д. Убедитесь, что питание подключено нормально, а вакуумная камера чиста без примесей.
3. Установка фундаментной плиты: прикреплять фундаментную плиту, подлежащую покрытию, к раме образца для обеспечения точного и стабильного положения. Для фундамента сложной формы стенд образца необходимо настроить для обеспечения хорошего покрытия.
II. Вытягивание вакуума
1. Запустить вакуумный насос: сначала включить механический насос, предварительно понизить давление воздуха в полости до более низкого уровня (обычно ниже 10 Па). Затем запускается молекулярный насос для дальнейшего снижения давления воздуха до высокого вакуумного состояния (обычно до 5 × 10 ⁻Па).
Поддержание вакуумной среды: В течение всего процесса покрытия необходимо постоянно контролировать давление воздуха в полости, чтобы убедиться, что оно находится в заданном диапазоне, чтобы обеспечить стабильность и управляемость процесса испарения.
III. нагрев и испарение электронных лучей
1. Электронный луч генерируется и фокусируется: включается источник питания электронной пушки, излучается электронный луч. Радиус отклонения электронного луча контролируется путем регулирования интенсивности магнитного поля, так что электронный луч точно падает на испарительный материал в тигле.
2. испарение материала: увеличение тока проволоки и мощности электронного луча для постепенного плавления и в конечном итоге испарения материала, покрытого испарением. При этом необходимо внимательно следить за состоянием испарения материала, чтобы обеспечить его равномерное нагревание и полное испарение.
Мониторинг и контроль толщины пленки: мониторинг толщины покрытия в режиме реального времени с использованием системы контроля толщины пленки. Когда достигается ожидаемая толщина, автоматически или вручную закрываются перегородки, чтобы остановить испарение.
IV. Последующая обработка
1. Закрыть устройство: последовательно выключать переключатель сканирования электронного луча, ток, напряжение и общий источник питания устройства в обратном порядке. Убедитесь, что все параметры сведены к нулю, прежде чем приступать к следующей операции.
Разрушение вакуума и извлечение: подача азота или другого инертного газа в полость для восстановления давления воздуха до состояния атмосферного давления. Затем откройте дверь, чтобы удалить покрытый образец.
3. Проверка образцов: взятая проба подвергается всестороннему контролю качества и эксплуатационным испытаниям для обеспечения ее соответствия технологическим требованиям и применимым стандартам.
Процесс использования электронных лучевых испарительных покрытий включает в себя несколько звеньев. Каждый шаг требует строгого контроля условий и параметров для обеспечения качества конечного результата. По мере развития и совершенствования технологии она будет играть важную роль во многих областях.