Фотолитограф является основным оборудованием для производства чипов, и его принцип работы похож на « проекционную экспозицию». С помощью ряда сложных оптических систем и точного управления он точно уменьшает и проецирует схемную графику на шаблон маски на кремниевые пластины, покрытые фоторезистом, что приводит к химической реакции фоторезиста. После последующей коррозии, ионной инжекции и других процессов в конечном итоге на кремниевых пластинах образуются необходимые транзисторы и схемы.Технический уровень фотолитографии напрямую определяет процесс производства и интеграцию чипа и является ключевым показателем уровня производства полупроводников в стране.
Сегодня был торжественно запущен лейбл - корт.Фотолитограф MA200 - BEМы реконструируем границы точности с помощью инновационных технологий и стремимся обеспечить более эффективные и стабильные отечественные решения для передового производства полупроводников.



Исследуйте сейчас -На пути к новой эре точного производства
прибор ЛебокоФотолитограф MA200 - BE












