Седьмая академическая конференция CIF по микроструктуре и производительности материалов завершилась успешно!

15 - 17 мая 2025 года в Ханчжоу была успешно проведена 7 - я академическая конференция по микроструктуре и характеристикам материалов, организованная Институтом материаловедения и инженерии Чжэцзянского университета и организованная Институтом материаловедения провинции Чжэцзян. На этой сессии основное внимание было уделено четырем основным областям « Материальная микроструктура, батареи и катализатор, фотоэлектрические материалы и устройства, материальные вычисления и искусственный интеллект», в которых приняли участие более тысячи экспертов и ученых из отечественных и зарубежных университетов, научно - исследовательских институтов и предприятий.

CIF с плазменной очистительной машиной, ультрафиолетовой очистительной машиной для озона, симметричной машиной, печной клеевой машиной для участия в потрясающем дебюте! Углубленное изучение горячих точек, приоритетов, трудностей и тенденций развития в таких темах, как « Материальная микроструктура, батареи и катализатор», фотоэлектрические материалы и устройства, материальные вычисления и искусственный интеллект. Обмениваться соответствующими результатами исследований и передовыми приложениями, такими как академическое мышление, производство, исследования и исследования, и содействовать строительству материальных дисциплин и подготовке кадров.

На этой выставке, CIF демонстрирует плазменную очистительную машину с использованием передовой плазменной технологии, которая может эффективно удалять загрязняющие вещества с поверхности материала, значительно улучшая гидрофильность поверхности изделия. Устройство широко используется в микроэлектронике, полупроводниках, новых источниках энергии и других областях, предоставляя отрасли эффективные и экологически чистые решения для очистки.

Также большое внимание уделяется ультрафиолетовым очистителям озона. Он использует синергию ультрафиолетового излучения и озона для глубокой очистки поверхности материала и может эффективно удалять остатки фоторезиста и органическое загрязнение, особенно в таких отраслях, как микроэлектроника и производство оптических устройств, которые требуют чистоты поверхности.

Свою производительность продемонстрировали также гладильные машины и печи для выпечки клея. Машина для выравнивания клея может точно контролировать толщину покрытия, чтобы обеспечить равномерное покрытие поверхности материала, обеспечивая стабильную основу для последующего процесса. Жареная клеевая машина с быстрым потеплением, точным контролем температуры и другими характеристиками, может удовлетворить потребности в выпечке различных материалов и процессов, широко используется в производстве чипов, печатных плат и других областях.

Во время выставки стенд CIF привлек большое количество посетителей для общения. Команда активно взаимодействует с посетителями, делится техническими достижениями и примерами применения, глубоко понимает потребности клиентов и обеспечивает основу для дальнейшей оптимизации продуктов и услуг.

Выставка, демонстрация передового оборудования не только отражает глубокое накопление технологий в области обработки поверхностей материалов, но и демонстрирует инновационные возможности. В будущем CIF будет продолжать поддерживать инновационный дух, постоянно улучшать производительность продукции, расширять области применения, чтобы продвигать материалы

Развитие науки и техники способствует развитию.