Устройство для низкотемпературной плазменной очистки

Криогенная плазма является четвертым состоянием вещества после твердого, жидкого и газообразного состояния. Когда дополнительное напряжение достигает разрядного напряжения газа, газ пробивается и образует смесь, состоящую из электронов, различных ионов, атомов и свободных радикалов. Несмотря на высокую температуру электронов во время разряда, температура тяжелых частиц очень низкая, и вся система находится в низкотемпературном состоянии, поэтому ее называют низкотемпературной плазмой. При низкотемпературном плазменном разложении загрязняющих веществ используются эти высокоэнергетические электроны, свободные радикалы и другие активные частицы, а также загрязняющие вещества в выхлопных газах, в результате чего молекулы загрязняющих веществ разлагаются в течение очень короткого периода времени с последующими реакциями для достижения цели разложения загрязняющих веществ. (Примечание: низкотемпературная плазма по отношению к высокотемпературной плазме функционирует при нормальных температурах.)