20T, 1600 °C SPS разрядная плазменная агломерационная печь с максимальной температурой до 1600 °C. Может использоваться для отжига материала, термокомпрессионного сцепления материала, обработки поверхности и синтеза и так далее. Обработанные образцы могут быть металлическими, керамическими, наноматериалами и аморфными материалами и так далее. Это оборудование особенно подходит для исследований твердых электролитов и термоэлектрических материалов.
20T, 1600°C SPS разрядная плазменная агломерационная печь(СИНТЕРОВАНИЕ ПЛАЗМЫ СПАРКА,СПСЭто новая технология быстрого затвердевания порошка.СПСИмпульсный источник питания с сильным током используется для стимулирования и облегчения процесса затвердевания и реакционного спекания материала. По сравнению с традиционными технологиями,СПСВ процессе обработки значения плотности для всех типов проводников, непроводников и композитов могут быть отрегулированы до любого значения спроса.СПСZui значительно сократил время эксперимента и потребление энергии, сохраняя при этом микронаноструктуру материала. Поэтому с момента своего рождения он быстро стал важным оружием во многих областях, таких как научные исследования, исследования и разработки новых материалов и промышленное производство.
20T, 1600°C SPS разрядная плазменная агломерационная печьИ, егоЗуиВысокие температуры могут1600°C. Может использоваться для отжига материала, термокомпрессионного сцепления материала, обработки поверхности и синтеза и так далее. Обработанные образцы могут быть металлическими, керамическими, наноматериалами и аморфными материалами и так далее. Это оборудование особенно подходит для исследований твердых электролитов и термоэлектрических материалов.

Технические параметры:
название продукта |
20Т, 1600плазменная агломерационная печь с градусным разрядом |
модель продукта |
CY-SPS500-20KW-20Т |
|
Структура
|
• Вакуумная полость из нержавеющей стали
• Система теплового давления
·DCИмпульсный источник питания
• Вакуумные системы
• Система управления тепловым давлением
|
Показатель работы |
·20 кВт |
Входное питание |
·AC380V 50 ГцТри фазы |
выходной ток |
·DC0-1500А(Цифровой контроль) |
Выходное напряжение |
·DC0-10В(Цифровой контроль) |
Частота импульсов |
·5 - 255 мс(Можно регулировать)
·2 - 1000 Гц(Можно регулировать)
|
* Высокая температура |
·1600ºСИнфракрасное измерение температуры300- Да.1800ºС |
Система контроля температуры |
• Прецизионная Европа (Евротермприбор контроля температуры
· Нажмите * скорость быстрого нагрева, сверхтемпература меньше3℃
· Точность контроля температуры:0.1℃
|
|
Давление жидкости
|
• Ручное управление давлением
* Большое давление: 20 Т
· Цифровое отображение манометра с сигнализацией об избыточном давлении
|
Тип |
• С термостатическими графитовыми пресс - формами (японского производства)
• Диаметр шаблона12 - 50 мм(Можно настроить по требованию клиента)
* Высоко выдерживает давление50МПа,* Высокое допустимое давление зависит от диаметра модуля
1 / 2Модуль диаметром в дюйм * выдерживает давление0,5 Т
1Шаблон дюйм * Сильное давление3Т
|
зона спекания |
·100 мм |
Вакуумная полость |
• Квадратная полость из нержавеющей стали
· Двухъярусная полость, которая должна входить в охлаждающую воду
|
|
真空度
(Комнатная температура)
|
·Добавить еще 10 (7,5 x 10 ^ - 2 то)(Использование механических насосов с двухступенчатым роторным вакуумным насосом)
·Плюс 1 (10 x 10 - 4 ТО)(Использование молекулярной насосной системы, можно приобрести в нашей компании)
|
* Высокие темпы потепления |
·300℃в мин |
циркуляционный водяной охладитель |
• Оборудование оснащено циркуляционным водяным охладителем с расходом58л/мин |
Стандартные запчасти |
• СпециальныеСПСТермопресс
·К&БТиповая термопара
• Силиконовое уплотнительное кольцо
• Инструменты для моделирования образцов
|
фут - дюйм |
· Размеры источника питания:760 В х 460 Ш х 1820 В, мм
· Размеры печи:970 Л Х 720 Ш Х 1400 В, мм
|
Сертификация качества |
·CEСертификация |
Оборудование SPS может проводить следующие исследования:
плазменное спекание разряда(СПС)углублять оптимизации и производительности пористой технологии
плазменное спекание разрядом(СП5)Подготовка и ремонтВ-10ТиЛегковая мишень
Разрядная плазма спекаетсяUHMWPE, Vectra A950/PEEПрикладные исследования в области обработки композиционных материалов
Подготовка плазменного спекания с механическим сплавом и разрядом8Crи15 КрФеррит и егоОДСИсследования Тикина
плазменное спекание разряда(СПС)Технические исследования по подготовке углеродных нанотрубок
Сферическое высокоэнергетическое измельчение и плазменное спекание(HEBM+SPS)Исследования по выявлению секретных и натриевых оловянных термоэлектрических материалов
Сжигание и термическая деформация разрядной плазмыНД-Фе-БИзучение подготовки и свойств магнитов
Исследование электрохимических свойств примеси наноматериалов и их соединений с использованием плазменного спекания разряда
моделирование и экспериментальное исследование закономерностей плазменного спекания и экструзии разряда
плазменное спекание с разрядом керамики на основе свинца
плазменное спекание разряда(СПС)Подготовка тонких кристаллов93W-5.6Ни1.4Фе高比重合金
Сжигание разрядной плазмыПЛЗТиYIGВид на керамическую конструкцию и свойства
плазменный спекание разрядаТиКчисловая штамповка композитного процесса
метод плазменного спекания разряда
Медь и сплавыТБ6Учебный анализ процессов плазменного спекания при порошковом разряде и влияния формы
Высокая плотностьВ-9.8Ни-4.2Феплазменное спекание в разряде сплава(СП5)Технические исследования
плазменное спекание разряда(СП5)ПодготовитьТиБ,Изучение организации и свойств керамики
плазменное спекание разряда(СПС)ПодготовитьЛаБгИсследование тканей и свойств нанокристаллического материала
плазменное спекание разряда(СПС)Техническая подготовкаЛаБ. Исследование поликристаллических нанокатодных материалов
Исследование электростатической плазменной спекания
плазменное спекание разряда(СП5)Исследования по подготовке стоматологических материалов
Влияние плазменного спекания разряда на ткань и электрохимические свойства полностью твердотельных аккумуляторов
23В-VвысокийНб-Тиальсплавной разрядный плазменный спекание
AlCoCuFeNi/Мгуглублять подготовки плазменного спекания и его организационных свойств
Исследование структуры и характеристик высококристаллических эвтектических сплавов
Давление плазменного спекания разрядаПЗТиПЛЗТВлияние кристаллической структуры и свойств керамики
плазменное спекание разрядаСмКосИсследование микроструктуры и магнитной энергии
(Tio.25Zro.25Nbo.25Ta0.25) CИсследование по подготовке и характеристикам плазменного спекания разряда высоковзяточной керамики
MoNbTaWИсследования по подготовке плазменного спекания разрядных сплавов, микротканей и антиоксидантной защиты поверхностей
Исследование композиционных материалов на основе фосфата
Подготовка плазменного спекания разрядаТи (С)А,N)Фонды керамики
Подготовка плазменного спекания разряда7075АИИсследование базовых композитов и их свойств
Исследование микроструктуры нанокомпозитных материалов и энергии их компонентов
Подготовка и модификация керамической керамики на основе плазменного спекания разряда
СМЗко 17исследование микроструктуры и магнитной энергии плазменного спекающего магнита с базовым разрядом
Подготовка плазменного спекания с механическим сплавом и разрядомCu-Cr-Nb合金
Спекание плазмы разрядаМг-Гд-ЗнИсследование тканей и свойств сплавов
углублять плазменного спекания и вязкости разряда керамики на основе карбида кремния
Вариация плазменного спеканиятуалетКомпозит на основе
моделирование и экспериментальное исследование термодинамической связи при плазменном спекании карбидным керамическим разрядом
плазменное спекание разряда
плазменное спекание разрядаТЗМ-xCuСтруктуры и детали покрытия могут быть изучены только
графит(Исследование по подготовке плазменного спекания и свойствам истинной ткани при разряде медных композиционных материалов
плазменное спекание разрядаТи-1А1-8В-5ФеИсследование микроструктуры и механических свойств