Добро пожаловать Клиент!

Членство

А

Помощь

А
Хэфэй хэгуан электроника
ЮйЗаказчик производитель

Основные продукты:

химия17> >Продукты

Хэфэй хэгуан электроника

  • Электронная почта

    317399383@qq.com

  • Телефон

    15955179814

  • Адрес

    Хэфэй, провинция Аньхой

АСвяжитесь сейчас

Фотолитограф с прямой записью

ДоговариваемыйОбновление на02/09
Модель
Природа производителя
Производители
Категория продукта
Место происхождения
Обзор
Прямая литография серии CG - MLC6 представляет собой сложный фотолитографический продукт. Устройство использует цифровую фотолитографию без необходимости маскировать шаблон и может передавать информацию о карте непосредственно на подложку, покрытую фоторезистом. Функции серии CG - MLC6 гибкие, небольшие по размеру и рентабельные, специально адаптированные для университетов, лабораторий и исследовательских институтов. Его основные прикладные продукты включают в себя различные типы производства MEMS (например, микрофоны MEMS, датчики давления, акселерометры, гироскопы, ультразвуковые датчики, пьезоэлектрические датчики), изготовление шаблонов маски и так далее.
Подробности о продукте

Фотолитограф с прямой записьюХарактеристики продукта:

Цифровая фотолитографическая система

Неоткрытый шаблон для микроскопических устройств

Изготовление фотошаблонов

3D Структурная экспозиция

Функция автоматического наведения

Пользователь настраивает функцию выравнивания меток

Визуальная экспозиция с фиксированной точкой

Автофокусировка

Нерегулярная экспозиция образцов

Быстрые и тонкие два режима экспозиции

Поддержка нескольких форматов данных (GDS II / Gerber / O DB + +)

Функция выравнивания спины (выбор)

Источник LD 405 нм (необязательно 375 нм)

Фотолитограф с прямой записьюПараметры:

модель

MLC Lite

Режим

Режим II

Режим III

Минимальный размер

0,5 мкм

1 мкм

2мкм

Минимальная ширина линии

0,8 мкм

1,2 мкм

2,5 мкм

однородность CD

10%

10%

10%

Двухэтажная точность 5x5m.

500 нм

800 нм

1000 нм

Двухэтажная точность 50x50m.

800 нм

1000 нм

1500 нм

Производительность

50 мм²/мин

100 мм²/мин

300 мм²/мин

Минимальный размер фундамента

5 мм х 5 мм

Толщина фундамента

0.1 - 12 мм (необязательно)

Площадь экспозиции

150 мм х 150 мм

Серая экспозиция

Выберите 128 ступеней

Источник экспозиции

Лазер, 405nm или 375nm