Категории продукта

Японская высокотехнологичная (Шанхайская) международная торговая компания с ограниченной ответственностью

Электронная почта
Телефон
Адрес
Пекинское здание развития, 18 - й этаж

Ионный измельчитель IM4000II

ДоговариваемыйОбновление на05/20

Модель

Природа производителя: Производители

Категория продукта

Место происхождения

Онлайн Консультация

Обзор

Стандартная модель IM4000 II позволяет проводить измельчение сечения и плоское шлифование. Он также может быть измельчен по сечению для различных образцов с помощью различных функций отбора, таких как низкотемпературный контроль и вакуумный перенос.

Подробности о продукте

Ионный измельчитель IM4000II

Консультации
Печать

离子研磨仪 IM4000II

Особенности
Элемент выбора
Спецификация

Особенности

Высокоэффективное измельчение сечения

IM4000II с измельченной способностью сечения до 500 мкм / ч^{* 1.}Более высокоэффективные ионные пушки. Таким образом, даже твердые материалы могут эффективно готовить образцы сечения.

* 1.: При напряжении ускорения 6 кВ Si - пластина выделяется от края щита на 100 мкм и обрабатывается на максимальной глубине в 1 час

Образец: Si пластины (толщина 2 мм)
Ускорительное напряжение: 6,0 кВ
Угол колебания: ±30°
Время шлифовки: 1 час

Если угол колебания изменяется при шлифовании сечения, ширина и глубина обработки также изменяются. На рисунке ниже показаны результаты измельчения сечения пластины Si под углом качания ±15°. За исключением угла качания, другие условия соответствуют вышеуказанным условиям обработки. Сравнение с результатами выше показывает, что глубина обработки становится глубже.
Для образцов, мишень которых находится на глубине, образец может быть измельчен более быстрым сечением.

Образец: Si пластины (толщина 2 мм)
Ускорительное напряжение: 6,0 кВ
Угол колебания: ±15°
Время шлифовки: 1 час

комбинированный абразивный прибор

шлифовка сечения

Даже композиты, состоящие из материалов различной твердости и скорости шлифования, могут быть сглажены с помощью IM4000 II
Оптимизация условий обработки для уменьшения повреждения образцов из - за ионного пучка
Может загружать образцы до 20 мм (W) × 12 мм (D) × 7 мм (H)

Основные виды применения измельчения сечения

Подготовка сечений металлов и образцов композитных материалов, высокомолекулярных материалов и т.д.
Подготовка сечений образцов в определенных местах, таких как трещины и пустоты
Подготовка сечений многослойных образцов и предварительная обработка образцов для анализа EBSD

плоское шлифование

Равномерная обработка в диаметре около 5 мм.
Широкие области применения
Образец с максимальным диаметром 50 мм × высотой 25 мм
Варианты вращения и качания (±60 градусов, ±90 градусов) 2 способа обработки

Основные виды применения плоского шлифования

Удаление мелких царапин и деформаций, которые трудно устранить при механическом шлифовании
Удаление поверхностной части образца
Устранение повреждений, вызванных обработкой FIB

Элемент выбора

Криогенный контроль^{* 1.}

Жидкий азот подается в резервуары Дьюара в качестве косвенного охлаждения проб из источников охлаждения. IM4000 II оснащен функцией контроля температуры, чтобы предотвратить переохлаждение образцов смолы и каучука.

* 1 Заказы должны быть сделаны одновременно с хостом.

常温研磨
Толкование при комнатной температуре

冷却研磨（-100℃）
Холодное шлифование (- 100°С)

Образцы: функциональные (бумажные) изоляционные материалы, которые уменьшают использование пластмасс

Функция вакуумной передачи

Образцы после ионного измельчения могут быть переданы непосредственно в SEM без контакта с воздухом.^{* 1.}、 AFM^{* 2.}Вверх. Функция вакуумной передачи может использоваться одновременно с функцией низкотемпературного контроля. (Функция вакуумной передачи плоского шлифования не подходит для функции управления низкой температурой).

* 1 Поддержка только японского FE - SEM с вакуумным коммутационным бункером
* 2 Поддерживается только вакуумный тип Hitachi AFM.

真空转移功能

Корпоративный микроскоп для наблюдения за процессом обработки

На рисунке справа изображен микроскоп, используемый для наблюдения за процессом обработки образцов. Трехглазый микроскоп с камерой CCD позволяет наблюдать на мониторе. Также может быть установлен двухглазый микроскоп.

察加工过程的体式显微镜

Спецификация

Основные элементы
Использование газа	Аргон
Режим управления расходом аргона	Контроль качества и расхода
напряжение ускорения	0.0 ～ 6.0 kV
Размер	616 (W) × 736 (D) × 312 (H) mm
Вес	Хост 53 кг + механический насос 30 кг
шлифовка сечения
Самая быстрая скорость шлифования (материал Si)	500 мкм / ч^{* 1.}Выше
Максимальный размер образца	20 (W) × 12 (D) × 7 (H) mm
Диапазон перемещения образцов	X ± 7 мм, Y 0 ~ + 3 мм
функция периодической обработки ионным пучком Время открытия / закрытия	1 - 59 мин. 59 сек.
Угол колебания	± 15°, ±30°, ±40°
абразивная функция широкополосного сечения	- Да.
плоское шлифование
Максимальный диапазон обработки	φ32 mm
Максимальный размер образца	Φ50 X 25 (H) mm
Диапазон перемещения образцов	X 0～＋5 mm
функция периодической обработки ионным пучком Время открытия / закрытия	1 - 59 мин. 59 сек.
Скорость вращения	1 rpm、25 rpm
Угол колебания	±60°, ±90°
Угол наклона	0 - 90°

* 1 Выделите Si - пластину от края щита на 100 мкм и обработайте ее на глубине 1 час.

Элемент выбора

Проекты	Содержание
Криогенный контроль^{* 2.}	Косвенное охлаждение образца жидким азотом, диапазон температурных параметров: 0°C - 100°C
Сверхжесткий экран	Время использования примерно в два раза превышает время использования стандартного экрана (без кобальта)
микроскоп для наблюдения за процессом обработки	Увеличенное кратное 15× - 100× биокулярное, трехглазое (может быть установлено CCD)

* 2 Заказы должны быть сделаны одновременно с хостом. При использовании функции контроля температуры охлаждения некоторые функции могут быть ограничены.