Оборудование для сухой очистки полупроводников

Оборудование для сухой очистки полупроводниковМодуль обнаружения газов, предназначенный для измерения высоких концентраций озона, используется для определения концентрации озона в газообразном состоянии в промышленных процессах. Основываясь на принципе ультрафиолетового спектрального поглощения, использование озонового газа для конкретного поглощения ультрафиолетового излучения различного размера для достижения цели обнаружения концентрации озона, использование высоковольтного удара для обнаружения структуры камеры и конструкции термостата управления, с точностью и надежностью.

область применения

Этот прибор в основном используется для измерения концентрации газообразного озона, образующегося при производстве полупроводниковых чипов, обработке воды и исследованиях озона, диапазон измерений может быть достигнут0-400 мг/лА.

Специальные продуктыТочка
①Высокая стабильность;

БВнедрение системы автоматического управления;

БКонструкция контактных материалов высокой чистоты;

Iv)Температура, давление、источник светав реальном времениКомпенсацияДанные стабильны и точны в различных условиях;

Апрямолинейная конструкция газовых путей, чтобы сделать установку продукта более удобной;

АВ уплотнительном кольце используется материал ПФЭ, который более устойчив к озоновой коррозии.

Оборудование для сухой очистки полупроводниковтехнологияпараметр
А Чэн:0 -400 мг/л
сущность степеньА.1% ФС
тяжёлый АполА.1% ФС

ноль Б Переместить:1% F.S / месяц
время откликаА.От 2 секунд до 95%

Поток газа:0,5-25 л/мин

Диапазон давления:0-115пси
Имитационный выводА.0-5V

Последовательная связь:RS485， Порт 9600 bps

Ввод питания:15 В

принять 口А.316L нержавеющая сталь 1 / 4VCR разъем

Время подогрева:15 минут

Рабочая температура:5～45℃

Стандартная температура:0℃
Фу Дюйм:170*55* 1.34.9мм
тяжёлый Количество:1.1k