-
Электронная почта
lu.yan@leboscience.cn
-
Телефон
13584134215
-
Адрес
Цзянсу Jiangyin Jinshan Road 201 Zhuangzhi Industrial Park A, пятый этаж, юг
Jiangsu Leibo Scientific Instrument Co., Ltd
[PF200 Break in situ] Оптимизация формы тонкой пленки, КПД 24,31%, 600 часов стабильности 89%!
Дата:2025-12-23Читать:1
По сравнению с циклическим покрытием перовскитные пленки, приготовленные методом скребывания, обычно имеют плохую форму и влияют на эффективность и стабильность солнечных модулей (PSM). С этой целью команда Института химии Китайской академии наук вводит полимерные добавки в предшественники перовскита, настраивает эллиптическую коллоидную структуру (В эксперименте использовался прибор Rebocolor PF200Результаты опубликованы в журнале Advanced Materials.
PF200 (скребок на месте) Оборудование:
Миниатюрный аппарат для нанесения покрытия, который может быть использован для платформы наблюдения за синхронным излучением на месте, толкатель может адсорбировать кремниевые пластины или другие формы головки ножа для нанесения покрытия с регулируемой высотой покрытия.
a) Схема процесса нанесения перовскитных тонкопленочных лезвий.
b) эллиптические сферические коллоиды иc) схема укладки сферических коллоидов и соответствующая перовскитная пленка.
d) Эллиптические сферические коллоиды иe) спектр SAXS для прототипа сферического коллоидного перовскита.
f) эллиптический сферический коллоидный предшественник иg) спектр GIWAXS на месте процесса образования перовскитной пленки, покрытой сферическим коллоидным предшественником.
h) перовскитные пленки, покрытые эллиптическими сферическими коллоидными предшественниками, иi) эволюция азимута, связанного с поверхностью (110) перовскитной пленки, покрытой сферическим коллоидным предшественником, полученная путем спектрального интеграла GIWAXS на месте.
j) эллиптический сферический коллоидный предшественник иk) Изображение 2D - GIWAXS на перовскитной пленке, покрытой сферическим коллоидным предшественником.
a) Эволюция среднего размера зерна в процессе нанесения лезвия.
b) схема ЛаМера, на которой перовскиты образуют ядро и модель роста.
c) диаметр DLS в прекурсоре перовскита.
d) PCE для PSCs, покрытых перовскитной пленкой лезвием с различной концентрацией полимеров.
e) интеграл азимута для характеристик рассеяния (100) на пленке перовскита в различных концентрациях полимеров.
f) СЭМ - изображение поперечного сечения перовскитной пленки, покрытой сферическим коллоидным предшественником и g) эллиптическим сферическим коллоидным предшественником.
h) моделирование коллоидных отложений сферических коллоидов, i) эллиптических сферических коллоидов и j) гиперэллиптических сферических коллоидов.
a) ультрафиолетово - видимый и PL - спектр перовскитной пленки, покрытой эллиптическими сферическими коллоидами и сферическими коллоидными предшественниками.
b) спектр TRPL перовскитной пленки, покрытой эллиптическими сферическими коллоидами и сферическими коллоидными предшественниками.
c) свойства темного J - V электронно - единственного диода с покрытием перовскитной пленки эллиптическими сферическими коллоидами и сферическими коллоидными предшественниками для анализа SCLC.
a) SEM - изображение поперечного сечения PSC, покрытое лезвием.
b) J - V характеристики PSC.
c) Спектр EQE.
d) Стабильный оптический ток и эффективность PSC в MPP.
e) Оптические фотографии PSM.
f) J - V характеристики PSM.
g) стабильность хранения PSM.
h) Стабильность отслеживания MPP в PSM.
После оптимизации формы пленки производительность устройства значительно улучшилась: эффективность PSC 0,09 cm²24,31%， 13.94 cm² Эффективность сертификации PSM21,37%Сохранение после 600 часов работы.89%Первоначальная эффективность.