Добро пожаловать Клиент!

Членство

Помощь

Moji Nanotechnology Co., Ltd
Заказчик производитель

Основные продукты:

instrumentb2b> >Статья

Moji Nanotechnology Co., Ltd

  • Электронная почта

    zhaomenglin@magie-nano.com

  • Телефон

  • Адрес

    Район развития города Яньтай

Свяжитесь сейчас
Какие уникальные функции выполняет нано - ув - смарт?
Дата:2025-12-18Читать:0
Фотолитографическое оборудование без маскиЭто технологический испытательный прибор, который проецирует схемы непосредственно на светочувствительные материалы с помощью высокоточной оптической системы, устраняя производственные звенья маски, необходимые для традиционной фотолитографии. Устройство можно разделить на оптические классы и классы заряженных частиц, включая такие технические типы, как прямая запись лазера и прямая запись электронного луча. В производстве полупроводников его значительные преимущества заключаются в повышении эффективности фотолитографии, снижении производственных затрат и сокращении цикла исследований и разработок, широко используются в биочипах, микромеханических и электрических системах и передовых областях упаковки.
На основе технологии сканирования пространственного модулятора света или прямой записи пучка заряженных частиц фоторезист без маски преобразует цифровую карту непосредственно в физическую графику на фоторезисте для достижения быстрого формирования без маски. Его основные технические показатели включают минимальную ширину линии, автоматическое переключение разрешения и фотолитографию с серой степенью.
область применения
‌ Разработка микросхем управления потоком ‌: подходит для исследований в области микрожидкостей, микроэлектроники и других областях.
‌ Мощный чип фотолитография ‌: Поддержка мультикарточного эксперимента с интегральными схемами на углеродных трубах.
‌ 3D Оптические элементы ‌: технология литографии с серой степенью для достижения трехмерной структурной обработки.
Основные функции фотолитографического устройства Magic Nauv - Smart без маски включают:
‌ Высокоточная обработка ‌: Использование технологии цифрового микрозеркала (DMD) для достижения точности ширины линии 300 нм, ошибка сращивания минимальна, сглаживание края конструкции.
• Высокоэффективная скорость прямой записи ‌: может обрабатываться 300 м² в минуту, подходит для быстрого моделирования и мелкосерийного производства.
‌ Полностью автоматическое управление ‌: Интегрированный дизайн, простая работа, поддержка 12 - дюймовой базы, подходит для микроуправления потоком, полупроводников и других областей.
‌ Промышленное применение ‌: Самоисследовательский алгоритм и высокопроизводительное аппаратное обеспечение в сочетании, с высокой точностью выравнивания, набором точности для удовлетворения потребностей массового производства.