-
Электронная почта
cui@nanoscribe.com
-
Телефон
13917994506
-
Адрес
Новый район Пудун, Шанхай, зона свободной торговли, 26, комната 108.
Nano 3D Technology (Shanghai) Co., Ltd. Nanoscribe
Сверхструктурная поверхность без маски лазерная литография с прямой записью производитель - Napuke 3D Nanoscribe, разблокировка также должна быть привязана к колокольчику!
Дата:2025-10-30Читать:1
Сверхструктурированная поверхность состоит из искусственных атомов субволнового масштаба и требует чрезвычайно высокой точности обработки, массы поверхности и свободы проектирования.
Будучи пионером в области двухфотонной фотолитографии без маски, его лазерное устройство прямой записи Quantum X серии без маски оснащено специальной двойной фотонной литографией серого цвета с минимальным характеристическим размером до 160 нм и шероховатостью поверхности 10 нм. Среди них система Quantum X align обладает точностью выравнивания нанометрового уровня, может создавать трехмерные структуры с высоким разрешением на оптическом волокне, чипе и кристаллическом круге, может точно обрабатывать свободные поверхности сверхструктуры и другие сложные структуры, NanoSic 3D Nanoscribe как его дочерняя компания, полностью принадлежащая Китаю, отвечает за продвижение и локализацию оборудования этой серии.
Технические характеристики: Сосредоточьтесь на технологии 3D - литографии с двойной фотонной полимеризацией (TPP), серия Photonic Professional GT является отраслевым стандартом.
Преимущества: Способность осуществлять реальную трехмерную микронаноструктурную обработку с разрешением до ста нанометров или даже выше, особенно подходит для создания сверхтектонических поверхностей со сложной трехмерной формой (например, анизотропные массивы наноколонн).
Применимость: идеальный выбор для разработки передовых и сложных 3D - суперконструкционных поверхностей.
Потребности в регулировании субволновой структуры сверхструктурной поверхности предъявляют почти жесткие требования к фоторезистивному оборудованию.Трехмерный NanoscribeУстройства серии Quantum X с трехмерным поперечным характеристическим масштабом 160 нм и производительностью шероховатости поверхности 10 нм позволяют легко управлять сложными структурными процессами, такими как свободные поверхности и дифракционные решетки. Основные 2GL ® Технология сочетает в себе высокую эффективность фотолитографии с серой степенью и точность полимеризации двойных фотонов, динамическую регулировку мощности лазера со скоростью 1 МГц для достижения многомерного производства от нанометрового до среднего масштаба, полную адаптацию сверхструктурированной поверхности к требованиям точного регулирования фазы и амплитуды света.
В передовых научных исследованиях это устройство стало ключом к преодолению технических узких мест. С помощью своей широкополосной сверхструктурированной поверхности команда успешно взломала присущее противоречие между « диапазоном измерений и разрешением» в технологии общей фокусировки дисперсии, стабилизировав поперечное разрешение в осевом диапазоне 100 микрон на 1 микрон и улучшив производительность в 2,5 раза. В области биодатчиков исследователи используют свои интегрированные технологические возможности для печати датчиков, которые интегрируют сверхгидрофобные структуры с нанофотонными элементами, повышая чувствительность обнаружения вируса до 0,1 TCID50 / mL и сокращая время обнаружения до 15 минут.