В качестве широко используемого оборудования для подготовки тонкой пленки магнитный распылитель постоянного тока часто сталкивается с рядом проблем при практическом использовании. Эти проблемы обычно связаны с технологической стабильностью, качеством пленки, обслуживанием оборудования и другими аспектами. Ниже приведены ответы на часто задаваемые вопросы, анализ причин и рекомендации по их решению:

Плазма нестабильна или не способна к свечению

1. Проявления проблемы:

Световой разряд нестабилен, мерцает или бьется.

Невозможность нормального освещения, без плазменного образования.

2. Возможные причины и ответные меры:

Недостаточный вакуум: фоновый вакуум или рабочее давление не соответствует требованиям к освещенности. Следует проверить вакуумную систему (насос, клапан, трубопровод) на предмет утечки.

Проблема впуска газа: рабочий газ ar нечистый или слишком мало аргона в полости, что приводит к ненормальному свечению.

Проблемы с мишенью: чрезмерное потребление мишени приводит к неполному воздействию зоны взлетно - посадочной полосы с магнитным управлением, отравлению мишени (при реактивном распылении) или плохому охлаждению задней панели, что приводит к высокой температуре мишени. Проверьте состояние мишени и убедитесь, что охлаждающая вода проходит гладко.

Плохое заземление: плохое заземление полости или стенда для отбора проб, что приводит к аномальным контурам разряда. Проверьте все электрические соединения и заземления.

II. Проблемы качества пленки

1. Плохая адгезия:

Причины: неполная очистка основания 1, слишком низкая температура фундамента, недостаточная ионная бомбардировка на начальном этапе осаждения (смещение не включено или слишком низкое) или чрезмерное внутреннее напряжение пленки.

Меры реагирования: очистка фундамента (ультразвуковая очистка, плазменная очистка); Надлежащее повышение температуры фундамента; Открывает смещение фундамента для ионной очистки и усиления сцепления мембранной базы; Оптимизация технологических параметров (перед нанесением покрытия наносится слой нижней пленки, увеличивающий сцепление, например никель).

2. Пленка неравномерна:

Причина: неравномерная эрозия мишени, несовместимость между основной пластиной и мишенью, отказ вращения / вращения основной пластины.

Контрмеры: оптимизация распределения магнитного поля мишени (использование регулируемых магнитных управляемых мишеней); Обеспечить нормальное перемещение или вращение фундамента; Настройка относительного положения и угла мишени - базы; При необходимости используйте щиты для оптимизации распределения толщины мембраны.

Общие рекомендации по техническому обслуживанию и профилактике

1.Нормативная эксплуатация: строго в соответствии с правилами эксплуатации оборудования, в частности, вакуум, надувной, включение и остановка питания и другие шаги.

2. Периодическое обслуживание:

Регулярно чистите полость, замените масло насоса, проверьте уплотнительное кольцо.

Калибровка вакуумметров, расходомеров, источников питания и других ключевых компонентов.

Проверьте системы охлаждающей воды и трубопроводы.

3. Технологическая запись: подробный учет параметров, явлений и результатов каждой операции, облегчающий отслеживание проблем и оптимизацию процесса.

Адекватное подогрев и предварительное распыление: после включения и перед формальным покрытием оборудование полностью подогревается, а мишень предварительно распыляется в течение достаточного времени для очистки мишени и стабилизации плазмы.