12 - дюймовое очистное оборудование

1. Обзор продукции:

12 - дюймовое очистное оборудованиеПлатформа Pinnacle300 подходит для процесса очистки в области интегральных схем, силовых полупроводников, подложечных материалов и микродисплеев на основе кремния. Машина в основном состоит из передающего модуля, технологического модуля, системы подачи жидкости, шкафа питания и так далее. Модуль передачи передает кристаллическую окружность в положение, может одновременно передавать 50 пластин, технологический модуль для очистки и травления, модуль подачи жидкости для высокоточного соотношения жидкости, нагрева, подачи, мониторинга концентрации.

2. оборудованиеприложениеА.

Размер кристаллической окружности

12 дюймов

Применимые материалы

Фоторезистор, монокристаллический кремний, поликристаллический кремний, оксид кремния, нитрид кремния, металлическая пленка, оксид металла

Применимая технология

Предпечная коррозия/ Очистка после полировки, фотосопротивление, удаление оксидов металлов, нитридов, восстановление контрольных пластин

Сфера применения

Интегрированные схемы, силовые полупроводники, материалы подложки, микродисплей на основе кремния

3. Особенные параметры:

Количество ванн для очистки: Как правило, существует несколько ванн для очистки для достижения различных этапов процесса очистки, например, может быть несколько ванн для химической очистки, ванн для очистки чистой воды и так далее.

12 - дюймовое очистное оборудованиеСпособ очистки: может поддерживать различные способы очистки, такие как химическая очистка, мегазвуковая очистка и т. Д. Для эффективного удаления различных загрязняющих веществ с поверхности кристаллического круга.

Контроль температуры: обладает точной способностью контроля температуры, может регулировать температуру очищающей жидкости или технологического процесса в определенном температурном диапазоне для удовлетворения потребностей различных процессов очистки.

Время процесса: позволяет точно определять и контролировать время каждого этапа очистки, обеспечивая согласованность эффекта очистки.

Размер кристаллической окружности: подходит для 12 - дюймовая чистка кристаллического круга хорошо отвечает требованиям очистки больших размеров.

Степень автоматизации: Высокий уровень автоматизации обеспечивает автоматическую передачу, позиционирование и автоматическое управление процессом очистки кристаллического круга, повышает эффективность производства и уменьшает ошибки в работе человека

4. Особенности оборудования

Могут быть оборудованы полифармакологическими технологическими ваннами, поддерживающимиВспомогательные функции DIO

Программное обеспечение адаптировано для быстрого обновления

Более высокая стабильность регулирования температуры

Очень высокая точность воды.

Точное регулирование скорости травления

Отличный сухой эффект.