- Электронная почта
- Телефон
- Адрес
Shenzhen Keshida Electronic Technology Co., Ltd
Широко используется в производстве оборудования для углеродных нанотрубок и промышленного производственного оборудования.
Пластинная инфракрасная нагревательная реакторная печь может использоваться для круглых кристаллических отжиговых систем 50 - 300 мм и линий выпечки промышленного производства.
Обогрев массивных базовых пластин (Solar cell - солнечные батареи, плоский дисплей FPD) Высокотемпературный быстрый нагрев полупроводниковых круглых кристаллов Отжиг тонкого металла Тип Ps имеет золотую отражающую поверхность шириной 40 мм. Тип Pss имеет золотую отражающую поверхность шириной 20 мм, которая обеспечивает интенсивную установку ламп Типы Ps и Pss могут нагреваться на больших площадях путем сборки; * 1 Описание типа: Взять, к примеру, Ps (s) 35V: P : Параболическая отражающая поверхность, s :: ширина 40 мм (ширина SS: 20 мм), 3 : Количество ламп; А, 5 : Длина лампы; А, V :: Нагрев плоским излучением • При работе печи требуется охлаждающая вода;использование
Особенности
А
модель* 1.
способ нагрева
Максимальная температура нагрева
Длина нагрева
(Длина свечения лампы)напряжение
мощность
Пс 15В
плоский радиационный нагрев
1
140 мм
200V
1,2 кВт
Пс110В
265 мм
2,0 кВт
Пс116В
420 мм
300V
3,0 кВт
Пс 35В
3
140 мм
200V
3,6 кВт
П310В
265 мм
6,0 кВт
Пс 316В
420 мм
300V
9,0 кВт
ПС35В
140 мм
200V
3,6 кВт
ПС38В
200 мм
4,8 кВт
ПС310В
265 мм
6,0 кВт
ПС316В
420 мм
300V
9,0 кВт
• Температура нагрева или скорость нагрева изменяется в зависимости от инфракрасного отражения, скорости поглощения, теплоемкости и материала нагреваемого образца.
· Другие потребности конфигурации, пожалуйста, свяжитесь с нами.