Системы химического осаждения в газовой фазе (PECVD), усиленные плазмой

1. Гибкие осадочные мощности

·Процесс осаждения на основе кремния -Оксиды, нитриды, оксинитриды, аморфный кремний (а-Si),Карбид кремния (СиК)

·Исследования и разработки

·Прототип

·Малосерийное производство -Фотоника,Твердотельное освещениеАМЭМСи нанотехнологии

·Область применения: Межслойная изоляция, пассивированный слой, инкапсуляционный слой, маскировочный слой, отражательный слой

2. Производственная ценность

1. Крупномасштабная погрузочно - разгрузочная площадка вручную(406 мм)

2. Отличная чистота

3. Высокийоднородность

4.Высокая пропускная способность

5. Надежное программное обеспечение

6.Небольшая площадь

7.Эффективно с точки зрения затрат

8.Легко поддерживается

9.Использование отраслевых головных частей

3. Проверенные решения

· ПродолжениеПТИ 790/790+Идея дизайна

оРучная загрузка, без загрузочного замка (может поддерживать партии или монолитные кристаллы)

оУстановлено больше400Комплект систем

оТехнология проста, структура прочная Цены конкурентоспособны, качество надежно

Небольшая площадь, экономия пространства