Термоатомные отложения

Введение в оборудование:

Небольшие настольныеИнструмент ALD (Атомное осаждение) предназначен для простой эксплуатации и установки без жертвЕго сексуальностьмочьДля использованияЭффективные с точки зрения затрат исследования и разработкиА.

Использование полупроводниковых элементов, металлических уплотнителей и мощныхПользовательский интерфейс, управляемый PLC, быстро циркулирует и высококачественная многокомпонентная пленка, которая легко поддерживается，Повторяемая и безопасная работа.

Технические параметры:

·Размер L * W * H: 62,3 * 61 * 40cm (4 дюйма)

·самыйвысокийВэньстепеньможноА315℃

·золотоБгерметичныйтрубаДао(Уменьшение атмосферыгрязьБ的машинауметь)

·Три источника органических металлов (нагреваемые до 150°C) и два источника окислителя / восстановителя (нагреваемые до 180°C в комплекте с нагреванием),Предоставление дополнительных вариантов реагентов

·Высокотемпературные быстродействующие импульсные клапаны ALD, оснащенные сверхбыстрым MFC для интегрированной продувки инертным газом - стандартизация

·Подходит для 4 - дюймовых, 6 - дюймовых и 8 - дюймовых базовых панелей и предлагает дополнительные индивидуальные зажимы для патронов (большие и многокамерные (3 таблетки дляВерхняя кристаллическая окружность (доступна)

·статическийпротивАМоСтильвнизможнореальныйсейчасвысокийАКрышка

·Зонное множествостатьПЛСконтроль的Семь дюймов.СяньАэкран

·На всю жизньМягкийштукаподниматьсяУровень

Доступные варианты

·Индивидуальный патрон / основание

·Конструкция пенообразователя для вашей бутылки

·Предшественник вентиляции корпус

Преимущества оборудования

АПроизводитель являетсяСпециалисты в области АЛД

АВысококачественные компоненты (линии полупроводникового класса, клапаны, металлические уплотнения (безводные или воздушные вторжения)

АНадежный (Управление PLC - без обновления драйверов, без дополнительных карт) и надежно (очень легко обслуживается)

АОн предназначен для лаборантов.

АМаленький и компактный (не занимает места)

АМалые камеры означают быстрое осаждение и меньшее количество отходов - предшественников и глубокое проникновение в трехмерные структуры.

АВремя быстрого потепления (и охлаждения)

АХимические вещества отделяются от реакций и, следовательно, не осаждаются в трубопроводах, клапанах и т.д.....

АКороткая длина между предшественником и полостью (уменьшает вероятность блокировки линии)

АПростая операция (150 меню со стандартным рецептом

Почему?АнрикТехнологии???

Мировой мейнстримПроизводитель ALD, напримерАСМ Интернэшнл Н.В.А, БенекА,ПиКосунА, Оксфордские инструменты，TEL и другие, эти крупные заводы сосредоточены на промышленном оборудовании ALD.

АнрикТехнологииА. Сосредоточьтесь на маленьких мини -, настольныхОборудование ALD, простое в эксплуатации, экономически удобное в обслуживании, особенно подходит для научных пользователей.

Разработчики представили:

Филипп де Руффьяк,Доктор философииОкончилГарвардский университет, отдел химииУчитель,Профессор Рой Гордон, Во время чтения было разработано несколькоАппаратура ALD, и в ГарвардеЦентр наномасштабных системРабота, в течение которой проводиласьвключаяРазработка сборных устройств CVD / ALDПотом вышел и основалАнриc ТехнологияСосредоточьтесь на мини - и настольных для лабораторных исследованийАльд.