Источник теплового испарения

Источник теплового испарения

МикроэлектрикИсточник теплового испарения

судно для испарения с покрытием оксидом алюминия

Корзинчатый терморезистор и тигель

складной плавучий аппарат

Специальные танталовые лодки

Источник складной ленты

Сломанный тигельный источник нагрева

Источник ячейки для материалов SiO, ZNS

Вольфрамовая проволока

хромированная вольфрамовая проволока

Источник вольфрама, тантала и молибдена

Основанная в 2001 году, Beijing Dei Tianli Technology Development Co., Ltd. является инновационным технологическим предприятием, объединяющим разработку и производство оборудования для осаждения тонкой пленки. Основные продукты компании охватывают различные тонкопленочные осадочные устройства, такие как магнитное распыление, электронно - лучевое испарение и терморезистивное испарение, широко используются в полупроводниках, микроэлектронике, нанотехнологиях, сверхпроводимости, квантовых технологиях, хранении данных и биологических пленках и других передовых областях.

Опираясь на основные технологические преимущества сверхвысокой вакуумной среды и высокоточных процессов, мы предоставляем университетам, научно - исследовательским институтам и корпоративным клиентам решения для осаждения пленки всего процесса от НИОКР до крупномасштабного производства, чтобы точно удовлетворить многоотраслевые и многоуровневые потребности научных исследований и индустриализации.

Будучи отличным поставщиком оборудования для осаждения вакуумной пленки в отрасли, Deyi Technology с момента своего создания реализует концепцию разработки продукта « Высококачественная конфигурация, высококачественные показатели, превосходные характеристики и высококачественные услуги», с более качественными продуктами и более профессиональными услугами, продолжает содействовать инновациям и промышленному прогрессу технологии пленки. В будущем мы будем поддерживать наше первоначальное сердце, постоянно специализироваться на передовой науке и технике в отрасли, полностью развивать высококачественное оборудование для осаждения вакуумной пленки для удовлетворения потребностей всех областей.