Добро пожаловать Клиент!

Членство

А

Помощь

А
Ханчжоу Юйчжицюань прецизионные приборы
ЮйЗаказчик производитель

Основные продукты:

химия17> >Продукты

УФ - литография

ДоговариваемыйОбновление на02/10
Модель
Природа производителя
Производители
Категория продукта
Место происхождения
Обзор
Устройства для фотолитографии с прямой записью, отечественное фотолитографическое оборудование с прямой записью, ультрафиолетовая литография AOD: лазерное оборудование для прямой записи в основном используется для передачи микроструктурных узоров без маски для подготовки дифракционных оптических элементов, микромеханических и электрических систем. Различные базовые пластины, используемые для нанесения фотолитографических коллоидов, подвергаются прямой экспозиции без маски (например, стекло, кремниевые пластины или другие плоские материалы) и будут использоваться в качестве дифракционных оптических элементов, платформ для обработки микроэлектромеханических систем.
Подробности о продукте

УФ - литография_АОД:: Лазерные устройства прямой записи в основном используются для передачи микроструктурных узоров с прямой экспозицией без маски для подготовки дифракционных оптических элементов, микромеханических и электрических систем. Различные базовые пластины, используемые для нанесения фотолитографических коллоидов, подвергаются прямой экспозиции без маски (например, стекло, кремниевые пластины или другие плоские материалы) и будут использоваться в качестве дифракционных оптических элементов, платформ для обработки микроэлектромеханических систем.

УФ - литография_АОДПараметры производительности прямой записи

Заголовок записи

Высокое разрешение

100 х

50 х

20 х

10 х

5 х

Минимальный размер характеристики (мкм)

0.25

0.3

0.6

1

2

4

шероховатость (3 сигма, нм)

50

60

70

80

110

160

однородность CD (3 сигма, нм)

50

60

80

130

180

250

Точность резьбы 100×100mm² (нм)

300

300

500

500

800

1000

Скорость записи mm² / min

5

15

40

150

600

2000

100 × 100mm² Время записи (min)

3000

740

255

72

20

7

Особенности системы

Источник света

405 нм или 375 нм

Размер фундамента

Максимум 9 дюймов.

Толщина фундамента

0,1 мм ~ 15 мм

Максимальная площадь экспозиции

200×200мм²

Температурная стабильность

±0,1°

Уровень серого

4096

Масштабируемость

Поддержка многоканального расширения

Особенности

Режим написания сценариев

Предоставление интерфейсов программирования сценариев для поддержки пользовательских структур обработки

Программное обеспечение для записи и резки

Поддержка JPG, TIFF, GDS и других форматов

Автофокус в реальном времени

Оптическая фокусировка

Диапазон автофокусировки

100 мкм

Системные принадлежности

Объект

5×, 10×, 20×, 50×, 100×, необязательный объектив с высоким разрешением

Размер системы

Длина, ширина, высота.

1320 мм х 1320 мм х 2000 мм

вес

1100кг

Условия установки

Электрические условия

230VAC±5%, 50/60Hz, 16А

температура окружающей среды

Температура: 21 ± 1 градус Цельсия, влажность: 50% ~ 70%, без конденсации

Сжатый воздух

6-9 бар, ± 0,5 бар

Экологическое освещение

Жёлтый свет

Класс чистоты

Тысяча чистых комнат