С глубоким проникновением микронанотехнологий в области фотонной интеграции, биомедицины и производства MEMS различные отрасли промышленности выдвигают дифференцированные требования к точности трехмерной микронаноструктуры, совместимости материалов и эффективности обработки. Нажмите 3D Nanoscribe с поддержкой 2GL ® Технология фотолитографии с двойной фотонной серой степенью, чтобы создать трехмерное решение для микронанообработки, охватывающее всю цепочку « Научно - исследовательские инновации - промышленное серийное производство», с основными преимуществами « высокой точности + высокой гибкости + многосценовой адаптации», стала ключевым выбором для различных отраслей промышленности, чтобы преодолеть узкое место микронанообработки.

В области фотонного инкапсуляции технология микронанометровой 3D - печати, особенно технология двойной фотонной полимеризации (2PP), благодаря своей высокой точности, реальной трехмерной обработке и преимуществам без маски, обеспечивает преобразующее решение для эффективной и низкозатратной оптической связи между оптическим волокном и чипом.

В целом, NaPuC 3D Nanoscribe является признанным отраслевым стандартом в этой области. Его основная технология двухфотонная литография серого цвета (2GL) ®）， Сочетание точности полимеризации двойных фотонов с эффективностью фотолитографии с серой степенью идеально подходит для изготовления сложных трехмерных микронаноструктур в фотонных упаковках.

I. Выбор технологического маршрута

1, двухфотонная полимеризация 2PP (фемтосекундная лазерная прямая запись): ориентирована на трехмерную структуру свободной формы субмикронного - микронного уровня, с полярной высокой степенью свободы проектирования, подходящей для сложной микрофотоники, микромеханики, микроуправления потоком и биологических кронштейнов; Может быть непосредственно сформирован на сложном фундаменте, поддерживая многоматериальную и композитную технологию.

2, двухфотонная литография серого 2GL: в одном и том же рабочем процессе с учетом 2.5D / 3D, с помощью тонкой модуляции прочности « соматического элемента», чтобы получить управление поверхностной сверхгладкостью и коэффициентом преломления / морфологической интеграции, подходит для микрооптики с высокой апертурой, устройства с градиентной скоростью преломления и материнской версии высокоточной формы.

3, фемтосекундная лазерная композитная стратегия « два в один»: на той же платформе асимметричная бифотонная полимеризация (построение анизотропного гидрогелевого сустава) в сочетании с исходным лазерным восстановлением осажденных наночастиц серебра (придавая фототермальному приводу и сенсорным функциям) для многосуставных микророботов, реконструируемых деформационных устройств и других активных микросистем.

4. Прямая печать на оптическом волокне / чипе: обеспечивает коррекцию наклона и выравнивание с несколькими степенями свободы, реализует гибридную интеграцию SERS - зонда на торцевой стороне оптического волокна, волновода - микросвета и производство добавок для 3D - микроструктуры в чипе, что значительно снижает затраты на упаковку и выравнивание.

5. Массовая и автоматизированная обработка на уровне кристаллов: для 6 - дюймовой кристаллической окружности, поддержка автоматического распределения смолы, многопользовательского процесса и дистанционного мониторинга, с учетом потребностей быстрого прототипа и мелкосерийного производства.