Французская вакуумная печь ANNEALSYS

Место рождения: AnnealSys, Франция;

Модель: AS - One100 / AS - One150

Вертикальные печи быстрого отжига AS - ONE производятся французской компанией AS и разделены на три модели AS - ONE 100, 150, 200, соответствующие 4 - дюймовой, 6 - дюймовой и 8 - дюймовой вакуумной печи быстрого отжига.

Применение:

Быстрый тепловой отжиг RTA;

- Быстрое термическое окисление RTO;

- диффузия, контактный отжиг;

- Отжиг полупроводниковых соединений;

- азотизация, силикация;

- Селенизация, вулканизация;

- осаждение графена, рост углеродных нанотрубок;

- Кристаллизация, уплотнение;

Технические характеристики:

спецификация

АС-ОНЕ 100

АС-ОНЕ 150

Максимальный диаметр основания образца

100 мм (4 дюйма)

150 мм (6 дюймов)

Размер полости

130 мм диаметр x 25 мм

200 мм диаметр x 25 мм

Количество инфракрасных ламп / максимальная мощность

12 единиц / 30 кВт

18 единиц / 34 кВт

Режим охлаждения инфракрасных ламп

вентилятор

вентилятор

Стандартный температурный диапазон

Комнатная температура - 1250 °C

Комнатная температура ~ 1200°C

Выбор высокотемпературной версии

Комнатная температура ~ 1500°C

Комнатная температура - 1300 °C

Скорость нагрева

0.1°C ~ 200°C/s

0.1°C ~ 150°C/s

Регулирование температуры

Быстрый цифровой PID контроллер

Быстрый цифровой PID контроллер

Термопара

Тип К

Тип К

пирометр

150°C ~ 1100°C

400°C ~ 1500°C

150°C ~ 1100°C

400°C ~ 1500°C

Газовая инжекция

Под кварцевыми окнами

Под кварцевыми окнами

Очистка газопроводов

Стандартная конфигурация

Стандартная конфигурация

Технологический путь / количество

MFC / 5 Путь

MFC / 5 Путь

Вакуумная система доступа

干泵 (10-2Торр)

Молекулярные насосы (10 - 6 Torr)

干泵 (10-2Торр)

Молекулярные насосы (10 - 6 Torr)

Размер / вес

510 мм х 1425 мм х 800 мм / 194 кг

510 мм х 1425 мм х 800 мм / 240 кг

Ссылка на клиента:

Университет Цинхуа, Пекинский университет, Университет Фудань, Южно - Китайский политехнический университет, 18 Тяньцзинь, 55 Нанкин, Шанхайский научно - исследовательский центр GE, Южный научный университет, Шэньчжэньский университет и другие.

Печь быстрого отжига для крупногабаритных образцов

Печь быстрого отжига (RTP / RTA) является технологическим оборудованием, часто используемым в полупроводниковых материалах и устройствах. Печь быстрого отжига может быть использована в вакууме, инертной атмосфере, различных технологических газовых средах.

Особенности прибора:

- Быстрая термическая обработка, быстрый отжиг RTP / RTA;

- Может использоваться в вакууме или даже в условиях высокого вакуума;

Широко используется в процессах быстрого отжига солнечных батарей, таких как 156 мм x 156 мм батареи, 300 мм x 300 мм батареи и так далее;