Добро пожаловать Клиент!

Членство

Помощь

Shanghai Maikewei Semiconductor Technology Co., Ltd
Заказчик производитель

Основные продукты:

instrumentb2b> >Продукты

Фотолитограф Elionix

ДоговариваемыйОбновление на05/07
Модель
Природа производителя
Производители
Категория продукта
Место происхождения

Обзор

Бренд: Elionix $r $n $r $n $r $n $r $n $r $n $n $r $n $n $n $n модель: ELS - F125 / F100 / HS50 $r $n $r $n экспозиция электронного луча, прямая запись электронного луча, электронно - лучевая литография $r $n $r $r $n $r $n $n $n $n предназначена для: использование электронного луча для написания нано - рисунков на антикоррозионном средстве, экспозиция и проявление через устройство ELB, может быть использовано для обработки тонкой структуры sub - 10nm.

Подробности о продукте

Краткое описание

ELS - F125 является одной из систем экспозиции электронного луча Elionix с ускоренным напряжением до 125 КВ, которая обрабатывает тонкую графику с нижним пределом ширины линии 5 нм. (Следующие параметры основаны на ELS - F125)

ELS - F125 имеет следующие преимущества:

Высокая точность написания книг.

- 5 нм ширина линии с точностью @ 125 кВ

- 1.7 нм диаметр электронного луча и минимизация эффекта близости @ 125 кВ

Высокий поток, хорошая однородность

- Написание с большим полем зрения: ширина линии 10 нм в поле зрения 500um

- Диаметр пучка электронов под высоким потоком остается небольшим, высокая пропускная способность без ущерба для разрешения, диаметр пучка 2 нм @ 1 nA

Интерфейс дружественный пользователю

Интерфейсы CAD и SEM для систем Windows:

Простая и простая в использовании функция дизайна.

- Легко управляемые условия электронного пучка

II. Основные функции

Основные применения

Микроструктура наноустройств

Интегрированные оптические устройства, такие как растры, фотонные кристаллы и т.д.

Структура NEMS, сложная тонкая структура

Шаблон фотолитографии

● Технический потенциал