- Электронная почта
- Телефон
-
Адрес
5500 Юаньцзян - роуд, район Минхан, Шанхай
Shanghai Maikewei Semiconductor Technology Co., Ltd
5500 Юаньцзян - роуд, район Минхан, Шанхай
1 Обзор продукцииА.
Физическое осаждение (ПВДПлатформа - это устройство, которое физически газифицирует поверхность источника твердого или жидкого материала в газообразные атомы, молекулы или ионы в вакуумной среде и осаждает поверхность матрицы, чтобы сформировать пленку с определенной функцией.ПВДПлатформа обычно включает в себя такие части, как вакуумные системы, системы нагрева, системы управления газом, осадочные камеры, системы поддержки матрицы и привода.АЭФизические платформы для осаждения в газовой фазе могут интегрировать эти ключевые технологические компоненты для обеспечения эффективных и точных решений для осаждения пленки.
2 Использование оборудования:
АЭОсновные виды применения физических платформ для осаждения в газовой фазе включают:
Поверхностная модификация: улучшение поверхностных свойств материала матрицы путем осаждения тонкой пленки с износостойкими, коррозионностойкими, проводящими, изоляционными, смазочными и другими характеристиками.
Подготовка функциональной пленки: подготовка пленки с функциями оптической проводимости, пьезоэлектричества, магнетизма, сверхпроводимости и т. Д. Применяется к электронике, оптике, датчикам и другим областям.
Декорация и защита: осаждение металлических или легированных пленок на поверхности высококачественных часов, ювелирных изделий, строительных материалов и т.д., чтобы обеспечить эстетическую и антикоррозионную защиту.
Микро - нанообработка: в микроэлектронике, полупроводниках, нанотехнологиях и других областях, подготовка высокоточных, высококачественных тонкопленочных структур.
3 Особенности оборудования
Высокая точность и однородность: Высокая точность и однородность осаждения пленки достигаются за счет точного контроля параметров осаждения, таких как температура, давление, расход газа и т. Д.
Многофункциональность: поддержка множестваПВДТехнологии, такие как вакуумное испарительное покрытие, вакуумное распыление покрытия, вакуумное ионное покрытие и т. Д. Для удовлетворения различных потребностей применения.
Экология и энергосбережение: осаждение в вакуумной среде для снижения загрязнения окружающей среды; Внедрение эффективных технологий использования энергии для снижения энергопотребления.
Автоматизация и интеллект: Интеграция компьютерных систем управления для автоматизации операций и интеллектуального мониторинга, повышения эффективности производства и качества продукции.
Ангстром Инженеринг的Среди PVDПлатформа представляет собой физическую систему осаждения в газовой фазе, некоторые из ее технических характеристик и применений перечислены ниже:
Технические параметры и характеристики:
Разные типыТрубка Nexdep PVDУстройства могут отличаться по конкретным техническим показателям, и если вы хотите получить более подробную информацию, вы можете обратиться к соответствующему руководству по продукту или напрямую связатьсяАнгстром ИнженерингКорпорация Бхагеерата. Кроме того, в Тяньцзиньском университете есть большая платформа управления приборами и некоторые объявления о закупкахТрубка Nexdep PVDИнформация о конкретных параметрах устройства, например:
1,Размер камеры является400 мм(Длинный)× 400 мм(Широкий)× 500 мм(Высокий), со съемной облицовкой из нержавеющей стали; Входная дверь - смещенная дверь, задняя дверь - шарнирная конструкция.ОКольцо типа уплотнение; Камерные двери оснащены встроенными смотровыми окнами с противоосадочными устройствами.
2,Вакуумная система, передний насос с использованием масляного насоса, скорость накачки не ниже9CFMОсновной насос использует молекулярный насос, скорость накачки не ниже685л/с; ОборудованиеКомпания Inficon MPG400Вакуумный калибр, диапазон измерений от3.75e - 9torrВ атмосферу; В чистой и сухой среде предельный вакуум лучше, чем5е - 7torrА.
3,Оборудование системы испарения 1 Источник испарения металла и 1 Контроллер источника испарения2,5 кВтИспользуйте контроллер питания с контролируемым кремнием.
4,Установка системы контроля толщины мембраны 1 Детектор для определения толщины мембраны с водяным охлаждением для повышения точности обнаружения, зонд установлен на жестком кронштейне для предотвращения точности воздействия столкновения.
5,Станция может быть загружена диаметром150 ммОбразец, совместимый с малогабаритным образцом, с функцией вращения, скорость вращения10-30 об/минРегулируемый; Система оснащена перегородкой источника испарения в режиме автоматического управления и перегородкой открытого стенда для отбора проб.