Добро пожаловать Клиент!

Членство

Помощь

Shanghai Maikewei Semiconductor Technology Co., Ltd
Заказчик производитель

Основные продукты:

instrumentb2b> >Продукты

Физическая седиментационная система Angstrom

ДоговариваемыйОбновление на05/07
Модель
Природа производителя
Производители
Категория продукта
Место происхождения

Обзор

Физическая платформа осаждения в газовой фазе Nexdep PVD обеспечивает баланс между экономичностью и универсальностью. Он может быть оснащен * функциями улучшения процесса, не занимая все пространство или бюджет лаборатории. Ваши исследовательские цели, производственные потребности и / или конечные цели приложения расскажут вам, как оснастить платформу Nexdep PVD.

Подробности о продукте

1 Обзор продукцииА.

Физическое осаждение (ПВДПлатформа - это устройство, которое физически газифицирует поверхность источника твердого или жидкого материала в газообразные атомы, молекулы или ионы в вакуумной среде и осаждает поверхность матрицы, чтобы сформировать пленку с определенной функцией.ПВДПлатформа обычно включает в себя такие части, как вакуумные системы, системы нагрева, системы управления газом, осадочные камеры, системы поддержки матрицы и привода.АЭФизические платформы для осаждения в газовой фазе могут интегрировать эти ключевые технологические компоненты для обеспечения эффективных и точных решений для осаждения пленки.

2 Использование оборудования:

АЭОсновные виды применения физических платформ для осаждения в газовой фазе включают:

  1. Поверхностная модификация: улучшение поверхностных свойств материала матрицы путем осаждения тонкой пленки с износостойкими, коррозионностойкими, проводящими, изоляционными, смазочными и другими характеристиками.

  2. Подготовка функциональной пленки: подготовка пленки с функциями оптической проводимости, пьезоэлектричества, магнетизма, сверхпроводимости и т. Д. Применяется к электронике, оптике, датчикам и другим областям.

  3. Декорация и защита: осаждение металлических или легированных пленок на поверхности высококачественных часов, ювелирных изделий, строительных материалов и т.д., чтобы обеспечить эстетическую и антикоррозионную защиту.

  4. Микро - нанообработка: в микроэлектронике, полупроводниках, нанотехнологиях и других областях, подготовка высокоточных, высококачественных тонкопленочных структур.

3 Особенности оборудования

Высокая точность и однородность: Высокая точность и однородность осаждения пленки достигаются за счет точного контроля параметров осаждения, таких как температура, давление, расход газа и т. Д.

Многофункциональность: поддержка множестваПВДТехнологии, такие как вакуумное испарительное покрытие, вакуумное распыление покрытия, вакуумное ионное покрытие и т. Д. Для удовлетворения различных потребностей применения.

Экология и энергосбережение: осаждение в вакуумной среде для снижения загрязнения окружающей среды; Внедрение эффективных технологий использования энергии для снижения энергопотребления.

Автоматизация и интеллект: Интеграция компьютерных систем управления для автоматизации операций и интеллектуального мониторинга, повышения эффективности производства и качества продукции.

Ангстром Инженеринг的Среди PVDПлатформа представляет собой физическую систему осаждения в газовой фазе, некоторые из ее технических характеристик и применений перечислены ниже:
Технические параметры и характеристики:

Разные типыТрубка Nexdep PVDУстройства могут отличаться по конкретным техническим показателям, и если вы хотите получить более подробную информацию, вы можете обратиться к соответствующему руководству по продукту или напрямую связатьсяАнгстром ИнженерингКорпорация Бхагеерата. Кроме того, в Тяньцзиньском университете есть большая платформа управления приборами и некоторые объявления о закупкахТрубка Nexdep PVDИнформация о конкретных параметрах устройства, например:

1,Размер камеры является400 мм(Длинный)× 400 мм(Широкий)× 500 мм(Высокий), со съемной облицовкой из нержавеющей стали; Входная дверь - смещенная дверь, задняя дверь - шарнирная конструкция.ОКольцо типа уплотнение; Камерные двери оснащены встроенными смотровыми окнами с противоосадочными устройствами.

2,Вакуумная система, передний насос с использованием масляного насоса, скорость накачки не ниже9CFMОсновной насос использует молекулярный насос, скорость накачки не ниже685л/с; ОборудованиеКомпания Inficon MPG400Вакуумный калибр, диапазон измерений от3.75e - 9torrВ атмосферу; В чистой и сухой среде предельный вакуум лучше, чем5е - 7torrА.

3,Оборудование системы испарения 1 Источник испарения металла и 1 Контроллер источника испарения2,5 кВтИспользуйте контроллер питания с контролируемым кремнием.

4,Установка системы контроля толщины мембраны 1 Детектор для определения толщины мембраны с водяным охлаждением для повышения точности обнаружения, зонд установлен на жестком кронштейне для предотвращения точности воздействия столкновения.

5,Станция может быть загружена диаметром150 ммОбразец, совместимый с малогабаритным образцом, с функцией вращения, скорость вращения10-30 об/минРегулируемый; Система оснащена перегородкой источника испарения в режиме автоматического управления и перегородкой открытого стенда для отбора проб.