тонкопленочные осадки CVD

ДоговариваемыйОбновление на05/08

Модель

Природа производителя: Производители

Категория продукта

Место происхождения

Онлайн Консультация

Обзор

Плазменная система осаждения SI 500D - это установка ICP - PECVD, которая использует плазменные источники высокой плотности ICP для осаждения диэлектрической пленки. Высококачественные пленки SiO2, Si3N4 и SiOxNy могут осаждаться при очень низких температурах ( amp; lt; 100 amp; # 186; C). Может быть достигнуто непрерывное регулирование толщины осадочной пленки, скорости преломления и напряжения.

Подробности о продукте

СЕНТЕХ ICPСистемы плазменного осаждения - SI 500D

Является основным производителем полупроводникового оборудования, разрабатывает, производит и продает хорошие тонкопленочные измерительные приборы (рефлекторы, эллиптические дефлекторы, спектральные эллиптические дефлекторы) и плазменное технологическое оборудование (плазменная машина, плазменная система осаждения, пользовательская система настройки).

СИ 500DСистемой плазменного осаждения является установка ICP - PECVD, которая использует плазменные источники высокой плотности ICP для осаждения диэлектрической пленки. Высококачественные пленки SiO2, Si3N4 и SiOxNy могут осаждаться при очень низких температурах (< 100ºC). Может быть достигнуто непрерывное регулирование толщины осадочной пленки, скорости преломления и напряжения.

СИ 500 DОсновные особенности:

Подходит для 8 - дюймовых и менее чипов.
Высококачественная диэлектрическая мембрана, осажденная при низких температурах: 80°C ~ 350°C
Высокоскоростные отложения
Низкие повреждения
Непрерывно регулируемые характеристики пленки (толщина, преломление, напряжение)
Плазменный источник PTSA с плоской трехспиральной антенной (PЛанарTзрелыйSпиралAтенна)
СЕНТЕХУсовершенствованное программное обеспечение для работы плазменного оборудования
Стенная установка

Настройка системы:

Похожий продукт рекомендовать