ИСП плазменная гравировальная машина

ДоговариваемыйОбновление на01/14

Модель

Природа производителя: Производители

Категория продукта

Место происхождения

Онлайн Консультация

Обзор

Плазменная гравировальная машина ICP WINETCH представляет собой экономически эффективную плазменную систему ICP, разработанную для нужд научно - исследовательских и корпоративных заказчиков. Будучи многофункциональной системой, он получает высокопроизводительный процесс травления ICP за счет оптимизированного проектирования системы и гибкой конфигурации. Компактная конструкция устройства занимает небольшую площадь, профессиональное механическое проектирование и оптимизированное программное обеспечение для автоматизации работы делает устройство простым в эксплуатации, безопасным и стабильным повторением процесса.

Подробности о продукте

Сухое травление ICP является распространенной технологией микронанообработки, которая основана на использовании высокочастотного электрического поля для ионизации газа, формирования плазмы, которая затем вводится в реакционную камеру, где химические реакции используются для коррозии или осаждения материала. В сухой резке ICP роль высокочастотного электрического поля заключается в ионизации молекул газа, образуя электроны и ионы. Ионы ускоряют движение под действием электрического поля и сталкиваются с молекулами газа в реакционной камере, в результате чего образуется плазма. Плазма обладает высокотемпературными, высокоэнергетическими свойствами и может эффективно обрабатывать материал. Сухое травление ICP характеризуется высокой точностью, высокой скоростью и высокой однородностью, а также меньшим повреждением материала, часто используемого в производстве микроэлектронных устройств, обработке оптических устройств и других доменах. Однако следует отметить, что при использовании сухого метода травления ICP следует выбирать подходящие параметры, такие как газ, мощность и температура реакционной камеры, чтобы избежать негативного воздействия на материал.

　　ICP Плазменный резак WinetchЭто рентабельная плазменная система ICP, разработанная для нужд научных исследований и корпоративных исследований и разработок. Будучи многофункциональной системой, он получает высокопроизводительный процесс травления ICP за счет оптимизированного проектирования системы и гибкой конфигурации. Компактная конструкция устройства занимает небольшую площадь, профессиональное механическое проектирование и оптимизированное программное обеспечение для автоматизации работы делает устройство простым в эксплуатации, безопасным и стабильным повторением процесса.

　　ICP Плазменный травильный станок WinetchА.

• 4 / 6 / 8 - дюймовая совместимая, монолитная вакуумная система передачи

• Низкая стоимость, высокая надежность, пригодность для НИОКР и мелкомасштабного производства

• Простая конструкция оборудования, малый внешний вид

• Простая в эксплуатации, удобная в автоматическом управлении, подходящая для крупномасштабной литографии

• Превосходная однородность травления, высокая скорость травления

• Системы управления программным обеспечением для привода формул и управления, отвечающие стандартам полупроводников

• Выберите высокий удельный вес, высокую анизотропию, небольшое коррозионное повреждение

• Высокая управляемость профиля сечения, гладкая и гладкая поверхность травления

ИСП плазменная гравировальная машинаТехнические параметры:

Размер кристаллической окружности: 4 / 6 / 8 дюймов Совместимость

Применимый процесс: плазменное травление

Применимые материалы: SiC, Si, Gan, GaAs, InP, Ploy, etc.

Сфера применения: соединения полупроводников, MEMS、 Мощные приборы, научные исследования и другие области

Похожий продукт рекомендовать