Научная плазменная система сухого травления (ICP / CCP)

Тип Pluto - E100Научная плазменная система сухого травления (ICP / CCP)Это недорогое настольное научно - исследовательское оборудование, подходящее для лабораторий научно - исследовательских институтов, и вся система предназначена для сухого травления проб размером до 4 дюймов. Система включает в себя несколько подсистем, таких как реакционная камера, вакуумная система, радиочастотная система RF, система реакционных газовых путей, управление электроприборами, программное обеспечение и т.д.

Вся система полностью автоматизирована для управления программным обеспечением, поддерживает написание recipe и поддерживает возможность автоматической работы на нескольких этапах процесса. Устройства имеют функции защиты безопасности, такие как взаимная блокировка, отключенная память, автоматическая сигнализация, защита молекулярных насосов. Для обеспечения гибкости оборудования зарезервировано определенное пространство для модернизации.

Научная плазменная система сухого травления (ICP / CCP)Технические параметры:

1. Реакционная камера: алюминиевый сплав T6060, подходящий для образцов размером до 4 дюймов;

Вакуумная система состоит из молекулярных и механических насосов, а вакуумная измерительная система использует конденсаторный манометр;

3. Оборудование оснащено радиочастотным источником питания мощностью 13.56 МГц мощностью 1000 Вт, автоматическим радиочастотным адаптером, а также радиочастотными кабелями и специальными радиочастотными соединениями;

4. Оснащен 4 - канальным реакционным газом, до 6 - канального;

5.ICP Plasma Leading Computer Полная система представляет собой автоматизированную систему управления, которая реализуется совместно с PLC, машиной управления и программным обеспечением управления.

Научная плазменная система сухого травления (ICP / CCP)Область применения:

Микроэлектроника: Плазменное травление широко используется в производстве интегральных схем и чипов для создания тонких структур в схемах, таких как транзисторы, конденсаторы и т. Д., А также для ремонта или настройки электронных устройств на чипах.

‌ Производство оптических устройств ‌: Технология плазменного травления может использоваться для изготовления оптических устройств, таких как оптическое волокно, оптический волновод и т. Д. Управляя энергией и плотностью плазмы, необходимые структуры и формы могут быть сформированы на оптических материалах.

• MEMS Manufacturing ‌: Плазменные травильные машины могут использоваться для изготовления тонких конструкций и устройств в микромеханических и электрических системах (MEMS), таких как микродатчики, устройства беспроводной связи и микромеханические системы движения.

• Изготовление обтекателя: плазменное травление используется для изготовления узоров на обтекателе, а также для ремонта или изменения тонких конструкций на обтекателе.

• Биомедицинские применения‌: Плазменное травление может быть использовано в биомедицинских областях, таких как производство микросхем управления потоком, биочипов и т. Д. Для достижения подготовки микроструктур, для биологического анализа и экспериментов.

• Нанотехнология ‌: Плазменное травление может быть использовано для изготовления наноматериалов и наноструктур, таких как нанотрубки, наночастицы и т. Д., Для достижения точной модификации и контроля материала путем управления составом плазмы и условиями реакции.

• Изготовление кристаллических пластин: В процессе изготовления кристаллических пластин плазменная гравировальная машина использует газ тетрафторуглерода для линейного травления кремниевых пластин, а также для удаления нитрида кремния и фоторезиста. Регулируя состав газа, вы можете точно контролировать глубину резки и достигать высокоточной резки на уровне микрон.